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1.
以B(CH_3)_3为掺杂剂,采用正交实验法,以硅烷浓度、B(CH_3)_3掺杂比、反应压强及气体总流量等主要沉积参数为实验组变量,对P型微晶硅薄膜进行初步优化。在玻璃衬底上沉积厚度为80 nm左右的P型微晶硅(μc-Si:H)薄膜,通过测试材料暗态电导率、XRD、Raman等,研究了上述沉积参数对材料电学和微结构性能的影响,并在此基础上做进一步的参数优化,得到更高电导的微晶硅薄膜;将其应用于PEN衬底的非晶硅薄膜太阳电池中,得到6%的初始效率。  相似文献   
2.
柔性PEN衬底ZnO:Ga薄膜的性能研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
以PEN柔性薄膜作为衬底,采用直流对靶磁控溅射的方法,在室温下制备ZnO:Ga薄膜。研究了不同溅射功率和不同溅射压强下制备出的薄膜表现出不同的光学和电学特性。经过溅射压强和溅射功率的优化,获得薄膜厚约900nm、电阻率为7.72×10^-4Ω·cm和可见光平均透过率超过75%的PEN衬底ZnO:Ga薄膜。将其应用于PE...  相似文献   
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