构件对象模型

计算机软件能力的飞速增长有着两个最显著的特征:即计算的网络化和处理信息的多媒体化面对软件越来越复杂,软件开发者已感到开发单一全功能的软件,满足使用者种类繁多且日益刻的要求,     

一种支持协同写作的系统模型

协同写作系统是计算机支持雷同工作系统（ＣＳＣＷ,Ｃｏｍｐｕｔｅ Ｓｕｐｐｏｒｔｅｃｄ Ｃｏｏｐｅｒａｔｉｖｅ Ｗｏｒｋ）的典型应用,目前已经开发了许多支持协同写作的系统,但在这些系统大多没有得到实际的应用。本文提出了一种支持在广域网环境下同步或步异的协同写作的系统模型,着重探讨了该模型下的协作问题。     

功率器件IGBT槽栅设计尺寸对直流参数影响的研究

IGBT由于其优异特性而广泛应用于电机、电焊机和功率开关等领域,是功率器件的主流产品之一。本文首先简要介绍IGBT及历代器件工艺的发展,提出了一种槽栅IGBT的工艺流程,并研究了其槽栅设计尺寸对器件主要直流参数的影响。     

影响IGBT器件短路能力的一种栅极振荡现象研究

功率器件IGBT由于其优异特性而广泛应用于电机、电焊机和功率开关等领域,是功率器件的主流产品之一。本文首先介绍了IGBT的短路特性及测试方法和条件,分析了栅极异常振荡对IGBT的短路电流的影响,提出了改善IGBT器件短路能力的方法。     

影响IGBT器件短路能力的一种栅极振荡现象研究

功率器件IGBT由于其优异特性而广泛应用于电机、电焊机和功率开关等领域,是功率器件的主流产品之一.本文首先介绍了IGBT的短路特性及测试方法和条件,分析了栅极异常振荡对IGBT的短路电流的影响,提出了改善IGBT器件短路能力的方法.     

低温氧化技术优化双极器件结构及工艺的研究

双极集成电路需要在不影响器件特性的前提下通过缩小基区面积提高电路密度.利用LTO淀积SiO2薄膜替代热氧化SiO2薄膜,用LTO较低淀积温度进行发射区退火替代氧化退火工艺,双极器件的基区和发射区消除了"分凝"和"鸟嘴"现象,具有自然扩散的形貌特征,缩小了基区面积,优化了器件结构,可以有效提高器件集成密度.在基区和发射区...     

光刻机曝光均匀性在线检测方法

光刻机的曝光量和焦距会随着做片量的增加发生漂移,具体表现为曝光场内和圆片内出现曝光不均的质量异常。设计了针形解析图形和方形显开解析图形,利用Ultra Step 1000光刻机进行实验,分析了曝光量和焦距的变化对解析图形解析值的影响。结果表明,曝光量对针形光胶解析图形影响较大,焦距对方形显开解析图形的影响较大。设计了解析图形在曝光场内和圆片内的布局方案,以及在线检测曝光场内和圆片内的曝光均匀性的具体方法,利用该方法可以有效提高光刻机曝光均匀性的在线监控效率,提早预防曝光不均异常现象的发生。该监控方法可以应用于其他类型的光刻机。