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为解决用于钙钛矿SnO2电子传输层镀膜工艺的原子层沉积(ALD)设备存在的镀膜均匀性问题,基于计算流体力学(CFD)仿真软件Fluent,从流场的角度对设备反应腔体进行了分析。根据流场分析的结果,进行了反应室结构优化设计。并通过工艺试验,验证了流场的改善对镀膜均匀性有明显帮助作用;对ALD设备流场分析及相关设备的设计优化具有一定参考意义。 相似文献
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