硬膜矩形带通滤光片

介绍了带宽系列为３０～４０ｎｍ 的硬膜矩形化带通滤光片的设计和制造方法。采用七半波膜系以获得矩形化程度较高的通带波形和深度的背景抑制特性（ＯＤ５～ＯＤ６）,结合工艺特性和允差模拟分析对膜系进行优化设计。采用光学过正极值法监控膜厚,采用非球面夹具解决膜厚均匀性问题,文中给出了设计和测试结果     

有限元法计算膜厚均匀性收

利用有限元法模拟计算了旋转平面夹具、旋转球面夹具、行星旋转球面夹具的膜厚均匀性,分析了均匀性的影响因素,指出了工艺中的调整方法.     

有限元法计算膜厚均匀性

利用有限元法模拟计算了旋转平面夹具、旋转球面夹具、行星旋转球面夹具的膜厚均匀性,分析了均匀性的影响因素,指出了工艺中的调整方法.     

深背景高陡度荧光滤光片

荧光滤光片是应用于生物医学和生命科学仪器的关键元件。介绍了深背景、高截止陡度荧光滤光片的设计和镀制工艺。采用优化设计HB-βBPF膜系,提高荧光滤光片的隔离度。分析了散射对背景深度的影响,通过优化工艺参数,降低散射。研制的荧光滤光片截止陡度小于10nm(OD0.3~OD5的波长间隔),邻域背景达到OD7~OD8。     

硬膜矩形带通滤光片

介绍了带宽系列３０～４０ｎｍ的硬矩形化带片的设计和制造方法。采用七半滤系以获 得形化程度较高的通带波形和深度的背景抑制特性（ＯＤ５～ＯＤ６）,结合工艺特性和允差模拟分析对膜系进行优化设计。采用光学过正极值法监控膜厚,彩非球面夹具解决膜厚均匀性问题,文中给出了设计和测试结果。     

《光学和光学仪器-光学薄膜》新国标的制定

介绍了国家标准GB/T26332《光学和光学仪器-光学薄膜》制定的背景及主要内容,分析了制定该标准所采用的国际标准ISO9211不同版本内容的变化及国际标准的发展趋势,对GB/T26332后续的制定和修订提出了建议.     

光学薄膜环境适应性试验方法标准发展综述及新国标介绍

对比分析了国内外现有光学薄膜环境适应性试验方法标准,介绍了2011年6月开始实施的GB/T26331-2010《光学薄膜元件环境适应性试验方法》国家标准的制定背景、制定原则、制定依据、标准结构及主要内容.     

光学薄膜技术标准发展综述

为了说明光学薄膜行业相关标准的发展概况,对光学薄膜技术领域相关国家标准和行业标准进行了总结,主要归纳为5个主题方向:膜层功能、面形偏差、表面疵病、环境适应性及产品应用等。介绍了各个主题方向包含的主要标准及发展历程,重点介绍了膜层功能主题方向的标准从1977年以来的4个阶段性发展历程。针对各个主题方向,分析了各个主题方向的国家标准及行业标准的适用性,并提出了光学薄膜领域国家标准及行业标准发展的5项建议:更新相关标准,系列化归纳标准,统一规范标准引用,对复杂标准增加解释说明,根据产业发展需求制定相关新标准。     

光通讯用低PDL线性渐变衰减滤光片

计算了渐变衰减滤光片的偏振相关损耗,分析了镀膜工艺对偏振相关损耗的影响,提出了降低偏振相关损耗的方法。采用线性迭代修正法和膜厚分布可调控制技术,提高了渐变衰减滤光片的线性度。制造出线性度小于5%、偏振相关损耗小于0.08dB的高性能渐变衰减滤光片。     

红外测温成像系统光学薄膜滤光片设计与镀制工艺研究

研究了人体红外测温、成像系统光学薄膜滤光片的光谱特性参数、膜系设计及镀膜工艺。根据黑体辐射理论计算人体红外辐射光谱分布,提出滤光片光谱特性参数要求:截止波长5.5μm,透射区波段7μm～12μm,平均透射率大于85%,截止波段UV-5μm,平均截止背景大于OD3。采用单晶硅片为基底,锗、硫化锌为镀膜材料,设计滤光片膜系,研究提出真空镀制工艺。