PECVD颜色均匀性的研究

根据多晶硅PECVD的制程原理,分别验证温度、流量、功率等工艺参数对镀膜质量的影响,寻求最佳参数,从而达到优化工艺,改善镀膜颜色质量,保证颜色均匀性的目的。     

多晶硅片清洗制绒均匀性的研究

根据多晶硅片的结构特点,对多晶硅片的绒面制备工艺进行优化,在达到减反射效果的同时,改善了电池片的色差情况,同时保证了电池片的转换效率。     

利用背激光提高高效单晶背电极拉力

针对高效单晶工艺下背电极拉力较市场要求略低的情况,采取更换背电极浆料和调整背激光工艺2种方法进行改进。结果表明,利用背激光提高高效单晶背电极拉力最理想,可实现高效单晶工艺的产线量产。