EUV光致抗蚀剂研究进展

波长13．5nm的极紫外（EUV）光刻技术可以刻画线幅〈32nm的图像,能满足信息技术对于光致抗蚀剂高分辨率的要求,即将成为下一代纳米成像技术,利用EUV成像技术,可以实现集成电路的超小型化。本文调研了近几年来EUV抗蚀剂的研究进展,指出影响抗蚀剂性能的主要因素,包括分辨率、LWR、LER、成像灵敏度、产气作用、成像侧面角度等,对近几年来有关EUV光致抗蚀剂的研究开发情况进行了归纳总结。     

聚集诱导增强型电化学发光有机体的构筑和在生物传感中的应用

电致化学发光(Electrochemiluminescence,ECL)是利用发光体在电极表面的氧化还原反应形成激发态中间体,当激发态中间体返回到基态时产生的发光现象。它是一种集化学发光与电化学优势的高灵敏检测技术,具有操作简单、连续可测、可控性强、灵敏度高等诸多优势,已经成为疾病标志物、食品与环境污染物等领域中重要检测手段之一。聚集诱导电致化学发光（Aggregation Induced-ECL,AIECL）是结合聚集诱导发光与电致化学发光优势发展起来的一种传感信号,它为ECL生物传感新方法的建立提供了一类高灵敏的发光体。本文重点综述有机材料的聚集诱导型电化学发光体的研究进展,着重总结典型的发光分子以及在生物传感中的应用。     

基于矩量法的小型化宽带线天线的仿真研究

研究了线天线的宽带化和小型化问题.针对目前通信技术的发展,各种电子设备均向小型化与微小型化方向发展,多频段和宽带跳频对带宽的需求,而常用的双极子天线由于带宽窄和物理尺寸大,无法满足天线小型化和宽带化的要求.提出了宽带匹配网络与加载相结合的方法设计了一种单极子加载天线,通过仿真详细分析了天线的电压驻波比和辐射特性,得出这种单极子加载线天线全面提高天线增益和降低电压驻波比的结果,经实验证明单极子加载天线基本满足小型宽带线天线要求.     

“信号与系统”仿真演示系统设计

本文利用Matlab的GUI界面编程方法,设计了一套"信号与系统"仿真演示系统,便于教师在课堂教学中应用,学生在课后练习,加深对理论知识的理解。本文从系统构架、界面设计和内容设计等方面对该系统进行了阐述,以几个典型模块为例说明了设计的基本方法和使用方法。该系统界面友好,使用简单。     

软交换双归属容灾组网关键技术探讨

软交换设备的异地容灾是提高网络安全性和提供可靠服务的重要手段,它能够保证系统在某个软交换节点故障的情况下还可以继续提供服务。双归属（Dual Homing）是一个网络拓扑,设备以独立接入点的方式连接到网络。一个接入点是主连接,备用连接在其主连接失败的情况下被激活。主要探讨双归属1＋1互助方式容灾中的一些关键技术,对故障检测,数据同步倒换给出了相应的解决方案。     

浅谈AutoCAD在气象防雷工程设计中的应用

随着当前科学技术的不断快速发展,我国的气象防雷技术取得卓有成效的进步同时,社会各界的生产、生活领域对于防雷工程设计技术的要求也越来越高。因此,这也进一步促使了AutoCAD制度技术在防雷工程设计中的广泛应用。本文探讨了AutoCAD在防雷工程设计中的分析应用,包括最大程度上发挥制图设计软件的功能,旨在推广在防雷工程设计中AutoCAD的应用。     

纳米压印抗蚀剂研究进展

纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一.基于其机械压印原理,纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光衍射或粒子束散射造成的局限.本文介绍纳米压印技术的基本原理,回顾了近期纳米压印抗蚀剂的研究进展.对影响抗蚀剂性能的主要因素进行讨论,包括玻璃化转化温度/热稳定性、粘度/平均分子量、抗蚀性能等.分别介绍了热压印和紫外压印的常见抗蚀剂材料,这些抗蚀剂的主要部分包括聚甲基丙烯酸甲酯（PM-MA）、有机硅改性的聚（甲基）丙烯酸酯、聚酰胺酯、聚二甲基硅烷、聚乙烯基醚化合物、环氧树脂等,并给出这些抗蚀剂体系的优、缺点.本文还介绍了纳米压印抗蚀剂面临的主要问题,对纳米压印技术的优势和问题作了小结.     

钢丝拉拔气动悬臂立式放线架的设计应用

文章介绍了为解决生产现场钢丝拉拔上料穿线需要爬高作业、存在安全隐患等问题,将固定立式放线架改造成气动悬臂式立式放线架.改进后实现了作业人员地面完成上料穿线作业,减少了一项三级危险源,同时节约上料时间,提高了生产效率.