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研究了场板终端技术对改善 MOSFET栅下电场分布和碰撞电离率的作用 ,结果表明 ,MOSFET在高压应用时 ,漏极靠近表面的 PN结处电场最强 ,决定器件的击穿特性。通过对实验研究与计算机模拟结果的分析 ,表明在不同的栅压下 ,此处场板长度的大小对栅下电场强度有直接的影响 ,合理地控制场板长度能有效地提高器件的击穿电压。  相似文献   
2.
本文介绍了交错式PFC方案的原理以及对比普通升压PFC的优势,采用TI公司的TMS320LF28035芯片实现了交错式PFC的软件控制算法。  相似文献   
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