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1.
运用时域有限差分(FDTD)方法计算了GaAs/玻璃/空气三组元光子晶体的透射频谱及缺陷模的传输特征,发现GaAs/玻璃/空气三组元体系的最低完全带隙宽度明显宽于玻璃/空气或GaAs/空气二组元体系,适当调整GaAs/玻璃比例可以得到宽带隙;光子晶体中的缺陷会形成局域模式,线型缺陷形成光波波导;设计适当的组合缺陷,并通过缺陷之间的耦合作用可以实现对光波传播的选择性输出.  相似文献   
2.
利用PCID软件模拟了n~+/p-p~+结构的单晶硅太阳电池铝背场与硅片厚度对其输出特性的影响.结果表明,有铝背场时太阳电池获得明显的开路电压、短路电流以及光电转换效率的增益;硅片厚度越小,铝背场对其输出特性的影响越大;在有铝背场情况下,硅片厚度为120μm时,可获得最大的光电转换效率.
Abstract:
The PC1D was usecl to simulate the influence of Al-BSF and wafer thickness on electrical properties of n~+/p-p~+ structural monocrystalline silicon solar cells. It is found that solar cells with the Al-BSF structure can gain obvious open circuit voltage, short-circuit current, as well as photoelectric conversion efficiency; the smaller the wafer thickness is, the bigger of the effect of Al BSF works on the electrical properties; when the wafer thickness is 120 m, the solar cells can get the biggest photoelectric conversion efficiency.  相似文献   
3.
The model of monocrystalline silicon solar cells is established,and the effects of wafer parameters,such as the p-Si(100) substrate thickness,the defect density,and the doping concentration,on the electronic properties of monocrystalline silicon solar cells are analyzed.The results indicate that the solar cells with an Al back-surface-field will have good electronic properties when the wafers meet the following three conditions:(i) the defect density is less than 1.0×1011 cm^-3;(ii) the doping concentration is from 5×10^15 cm^-3 to 1×10^17 cm^-3,i.e.the bulk resistivity is from 0.5 Ω·cm to 10 Ω·cm;(iii) the cells substrate thickness is in the range of 100 μm to 200 μm.  相似文献   
4.
采用磁控溅射在扩散工艺后的单晶硅片背面沉积了铝膜,对样品在600~900℃之间进行了快速热处理,利用四探针电阻测试仪、扫描电镜对热处理前后样品的电阻率、形貌等进行了表征,用半导体参数测试仪测量了样品的I-V曲线,计算了铝膜与硅片的接触电阻,并同步与印刷铝浆料样品进行了对比,研究表明,与丝网印刷工艺相比,溅射铝膜具有均匀细腻、电阻率低、接触电阻小等优点.  相似文献   
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