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为了研究N沟道硅结型场效应晶体管(JFET)在辐照环境下的电特性和噪声特性,利用Co-60源对其进行了γ射线辐照试验。辐照剂量率为0.1 rad(Si)/s,累积总剂量为100k rad(Si),辐照试验以及参数测试均在室温下进行。辐照后,器件的电特性保持不变,但产生复合(g-r)噪声随辐照剂量的增加而增大。通过对噪声功率谱密度数据拟合后发现,g-r噪声的特征频率只有非常微小的变化,而g-r噪声幅度在逐渐增大。利用辐照引起的相同种类(激活能相同)的点缺陷密度的增加以及点缺陷捕获-释放载流子几率的增大机制对试验数据进行了解释。 相似文献
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电离辐照使NPN晶体管基极电流增加,导致电流增益退化。辐照感生的界面态使表面复合速率,感生的氧化物电荷改变基区表面势,导致表面复合率增加,这两者都引起基极电流增加;基于此,建立了电流增益退化模型。结合感生的界面态和氧化物电荷的产生机制,这个模型能够解释辐照导致的增益退化,以及增益退化的低剂量率增强效应。在Co60 源上进行了γ射线辐照试验,高剂量率为10 rad (Si)/,低剂量率为0.1 rad(Si)/s,总剂量为70krad(Si)。这个模型很好解释实验数据。 相似文献
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