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1.
一、偏转系统的重要作用生产能力是电子束曝光设备的重要指标,电子束曝光技术的很多研究工作都是围绕着如何提高生产能力这个问题展开的。电子束曝光技术直接为大规模集成电路生产服务是近十几年的事情。国外电子束曝光设备的生产能力逐年提高,电子束曝光设备偏转系统的不断改进是关键因素之一。以下三个方 相似文献
2.
扫描电子束曝光技术应用于加工半导体集成电路的研究,开始于六十年代中期。随着电子计算机和半导体集成电路生产发展的需要,近五、六年来扫描电子束曝光设备在性能上有了较大的飞跃。本文简要地评述国外扫描电子束曝光设备以及密切有关的其他曝光设备的发展现况,列表比较了几种曝光设备的性能和生产能力,并指出了今后的发展趋势。 相似文献
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多极静电偏转器偏转场分布之解 总被引：1，自引：0，他引：1
文章推导了两种多极静电偏转器偏转场分布的统一、简单之解;采用有限差分法,计算了多极静偏器多种不同几何尺寸的富里埃函数系数和光轴电场强度分布等场参量,提出多极静电偏转器和平行板静电偏转器光轴电场强度分布的近似公式;讨论了多极静电偏转器偏转场分布的各种特点。 相似文献
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本文介绍了对电子束曝光机偏转象差进行全面校正时标记采样结点,包括电子束斑形状和标记位置的检测方法。推导了通过测量四个方向上的束斑“直径”便可计算束斑形状的椭圆参数公式,从而使得对偏转散焦进行精确校正成为可能,这在以往的文献中不多见。论述了测量标记采样结点数据与确立偏转象差校正方程的关系。 相似文献
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本文提出两种形式的多极静电偏转器偏转象差的简单计算方法。通过合理选择多极静偏器的调节参数,获得了在16个象差系数中只有9项积分运算的偏转象差系数公式。它们没有光轴电场强度分布的二阶导数,因而计算精度高。 相似文献
6.
本文继文献[1]的概念,具体论述电子束曝光系统双通道静电偏转和象差校正技术的几个重要问题,给出有关设计方案。 相似文献
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The general field solutions are presented for two kinds of infinitely long multipoleelectrostatic deflectors.A method is given to obtain uniform field near the optical axis.We calculated sixforms of deflectors,the concerned formulas and data are given.The relationship and difference between twokinds of deflectors are analysed. 相似文献
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9.
本文推导了两种类型的多极静电偏转器在无穷长情况下场分布的普遍解;提供了多极静电偏转器在光轴附近获得均匀偏转场的方法;计算了六种实用的多极静偏器,给出了有关公式和数据,分析了两种多极静偏器之间的联系和区别。 相似文献
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半导体集成电路的发展,特别是大规模、超大规模集成电路的发展,在国民经济、军事及日常生活的各个方面都引起了深刻的变化。国外权威人士的看法是“谁控制了半导体工业,谁就控制了世界产业”。它清楚地说明了作为现代工业的基础之一——半导体集成电路 相似文献