光刻技术及其新进展

介绍了用于制作半导体集成电路的光刻工艺的概念、分类及发展过程，阐述了当前光刻工艺的主流，并重点介绍了极紫外光刻、X射线光刻、电子束光刻、离子束光刻、纳米图形转印等下一代光刻技术的特点及其面临的挑战。     

点焊质量动态电阻阈值法自适应控制的研究

在动态电阻阈值法的基础上,以規范化熔核动态电阻曲线为依据,提出一种能够在焊接时及时、主动地调控熔核区加热速度,进行反馈控制的自适应控制方法(DRC法)。改进后的DRC法较单纯的动态电阻阈值法具有更好地控制效果。     

气敏元件自动测试系统的设计

介绍了一套气敏元件自动测试系统的设计方案,该系统能够自动控制气敏元件的工作温度、时间及测试气体的流量和浓度,能够自动采集气敏元件的动态响应,并通过测试系统软件实现数据处理与图像分析.改善了系统在数据采集与图像处理方面的不足.     

谷点间距法测量细丝线径

1.概述 随着生产技术的高速发展,生产过程中对细丝线材直径的在线测量及反馈控制的要求越来越高,越来越迫切。线径是线材的重要质量指标之一,然而,到目前为止,仍然缺乏实用方便的细丝线径的实时在线测量手段,只能在生产后进行检测,当然,这无法达到反馈控制的目的。     

测量细丝线径的谷点间距法

本文提出的谷点间距法是一个适合在线测量不透明细丝线径的新方法,它工作的基础是获取并处理激光衍射图样中两相邻暗点(谷点)间距的光学信息。由于测量系统采用了CCD、浮动二值化、有源滤波、单片机等先进技术与先进器件,使得测量结果精确、稳定、可靠。