DC-DC变换器中双开关网络的平均模型及其应用

根据电感上电流的断续情况,开关变换器可以工作在连续导电模式(CCM)和断续导电模式(DCM).开关网络的等效变比μ(t)可以被认为是CCM开关网络占空比d(t)的另一种表达式.因此,以CCM变换器为例的模型结果还可以用在其他工作模式,甚至可以使用于其他结构的变换器,需要处理的只是用μ(t)代替d(t).等效变比可以用作判断工作模式的标准.在这个仿真电路中,用平均开关模型子电路CCM-DCM代替了由功率场效应功率管和二极管组成的开关网络.     

用uC/GUI进行界面研究和设计

GUI能提供友好界面,使得计算机称为大多数人都能够使用和接受的工具。在一些界面功能要求简单的嵌入式系统中,可以自行编写一些函数集,来进行位图转换,图形,文字的显示以及中文的显示。文章对利用GUI的这些功能进行简单的界面设计,利用平台的键盘编写键盘控制程序实现对界面间的跳转,达到所需界面进行介绍。     

硼铝乳胶源扩散的质量控制途径

乳胶源扩散是近年来得到应用的新工艺,它具有扩散参数均匀的特点,其应用不断推广。本文对影响硼铝乳胶源扩散质量的各种因素进行了试验,在此基础上探讨质量控制的方法。     

SOI高压MOSFET的电流-电压特性模拟

在不同漂移区浓度分布下 ,通过二维数值模拟充分地研究了薄膜 SOI高压 MOSFET击穿电压的浓度相关性 ,指出了击穿优化对 MOSFET漂移区杂质浓度分布的要求。分析了MOSFET的电场电位分布随漏源电压的变化 ,提出寄生晶体管击穿有使 SOI MOSFET击穿降低的作用。     

薄膜SOI LDMOS自加热效应的表征及相关因素探究

通过具有埋氧化层热阻影响和无此影响的薄膜ＳＯＩＬＤＭＯＳ的电热模拟对比,了二氧化硅低热导率对器件温度分布及Ｉ－Ｖ特性的应用。首次表征了仅由埋氧化所致的自加热效应。重点讨论了薄膜ＳＯＩ高压ＭＯＳＦＥＴ的自加热２与器件结构和工艺参数的关系。     

二氧化锡纳米梭阵列的合成与场发射特性研究

利用热蒸发法在硅衬底上合成了二氧化锡纳米梭阵列,并研究其场致电子发射特性。研究结果表明,所合成的二氧化锡纳米梭是一种新型的纳米结构,可以通过反应时间的不同得到不同密度的二氧化锡纳米梭阵列,从而实现可控生长。在研究场致电子发射方面,我们发现所合成的二氧化锡纳米梭阵列有优良的场发射性能,开启电场为1.4V/μm,对应的发射电流密度为10μA/cm2;当电场强度为7.4V/μm时,发射电流密度高达2.48mA/cm2。这是由于二氧化锡纳米梭结构有很小的尖端曲率半径以及所测量样品中二氧化锡纳米梭阵列分布比较均匀造成的。测量结果发现在F-N曲线上呈现两个线性段,我们认为这是由于在不同的电场下,发射电流由不同高度的梭形结构引起的,不同高度的梭形结构由于长径比不同因而具有不同的场增强因子,从而导致在F-N曲线上表现为两个线性段。