激光干涉光刻工艺开发与应用研究

成功开发出以劳厄干涉为基础的激光干涉光刻系统与工艺,该工艺可在大面积范围内加工二维周期性图形,非常适合于生产光电子器件和微电子器件的周期性结构。通过实验研究了使用该工艺加工表面纳米结构的流程,对比了几种光刻胶在该工艺中的性能特点。该工艺不需要掩模、昂贵的短波长光源和成像透镜。初步实验结果表明:该工艺可以生产大面积亚微米周期的光栅、点阵以及锥形结构,为激光干涉光刻加工纳米结构的后续工作奠定了基础。     

一种用于有机磷农药检测的微流控传感器

成功制作出一种用于检测有机磷农药的聚二甲基硅氧烷(PDMS)微流控传感器,该传感器集成了光纤和用于固定有机磷水解酶的SU-8圆柱.检测原理基于反应产物对光的吸收,不同浓度有机磷农药的实验结果显示:该传感器的线性相关系数为0.9934.实验结果展示了一种将酶固定在微流沟道的简单方法.简单的制备工艺和便携式的器件为集成化的...     

高分辨率SiNx纳米压印模板的快速制备工艺

纳米压印技术是近年来国际新兴的纳米光刻技术,具有高分辨率、高效率和低成本等优点。本文结合电子束光刻技术和干法刻蚀技术开发了简洁的纳米压印SiNx光栅模板制造工艺。为提高工艺效率,引进高灵敏度的化学放大胶NEB-22胶（负性胶）作为电子光刻胶,用电子束光刻技术在NEB-22上刻出光栅图形,再利用其作为掩膜,经反应离子刻蚀后,将光栅图形转移到氮化硅上,得到所需模板。文中详细研究了NEB-22胶的电子束光刻特性及其干法刻蚀特性,指出了它作为电子束光刻胶的优点及它相对于铬掩膜而言作为干法刻蚀掩膜的不足。