一种新型的激光—等离子体辅助化学气相沉积装置的研究

为探索用激光离子体共同辅助化学气相沉积过程以实现室温沉积的可能性，设计并制造了一种新型的ＣＶＤ装置，实际了ＳｉＨ４－ＮＨ３－Ｎ２体系制取Ｓｉ３Ｎ４膜的试验。结果表明，激光和等离子体是可以相互促进，共同辅助ＣＶＤ过程的，且两者均处于较代的能量水平。     

当前快速成型技术研究和应用的热点问题

ＲＰ技术是近年来发展相当迅速的一项综合应用技术。就ＲＰ制造工艺、ＲＰ材料、ＲＰ系统软件、ＲＰ集成技术以及ＲＰ技术的应用等一些热点问题进行了综述。     

当前快速成型技术研究和应用的热点问题

ＲＰ技术是这年来发展相当迅速的一项综合应用技术，就ＲＰ制造工艺ＲＰ材料，ＲＰ系统软件，ＲＰ集成技术以及ＲＰ技术的应用等一些热点问题进行了综述。     

直拉法晶体生长采样调节自动控径系统

直拉法晶体生长的自动控径方法,国内外已有不少报导。熔体称量法是常用的一种。有关文献指出,晶体直径对单晶炉加热功率的响应,存在着不可忽略的死区纯滞后和较长的热时间常数,这在电阻加热单晶炉及大型单晶炉中尤为严重。而目前的自动控径系统多属简单回路调节系统或前馈调节系统,长出的晶体虽然宏观等径,显微生长速率却发生较大的起伏。我们根据等径控制的实质问题在于控制晶体显微生长速率的理论,建立了采样串接调节系统,有效地克服了单晶炉的纯     

集装箱角件材料及其热处理

为了寻求适应我国国情的制造标准集装箱角件的材料及合适的热处理工艺，进行了材料成分、熔炼工艺、热处理工艺等多方面的探索。并对添加各种不同微合金化元素的１５Ｍｎ钢进行了金相组织、力学性能试验，并且对熔炼脱氧工艺进行了改进。通过扫描电镜分析证实，改进脱氧工艺后，夹杂物形态由尖锐角状变成了球状，－４０℃Ｃｈａｒｐｙ－Ｖ型试样冲击功提高，断口形貌韧性区增大。此外还对每种制造工艺进行了效益比较，得出了一种能满足多国船检机构性能要求、成本低且生产工艺简单的制造方法。     

激光—等离子体辅助化学气相沉积工艺参数对氮化硅膜显微硬度的影响

采用一种新的方法－激光－等离子体辅助气相沉积法，在自行研制的ＬＰＣＶＤ装置上进行了Ｓｉｈ４－ＮＨ３－Ｎ２体系沉积Ｓｉ３Ｎ４膜的工艺试验；采用正交试验法选择工艺参数，根据显微硬度评价膜层性能，并找出最佳工艺参数；激光功率密度为３２８Ｗ／ｃｍ＾２，ＲＦ电源功率为５０Ｗ，氮硅流量比为１０。结果表明，激光功率密度对膜层显微硬度的影响最大，ＲＦ电源功率的影响次之，氮硅流量比的影响最弱。