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薄膜均匀性的分析研究 总被引:3,自引:0,他引:3
目前,薄膜在现代科学技术中的重要性与日俱增,基本上各种技术都离不开薄膜。薄膜均匀性在光学、光电及微机电系统(MEMS)等器件的加工工艺中起着不可估量的作用。首先,对点源小面积薄膜均匀性的公式进行理论推导;其次,分析了平面和球面夹具的基片薄膜均匀性公式,并根据这些理论公式着重分析影响薄膜均匀性的各种因素以及改进措施;最后,通过对实验数据的分析研究来不断地改进薄膜均匀性的夹具,改善器件的膜厚均匀性、一致性,从而达到提高器件的稳定性和可靠性,降低生产成本的目的。 相似文献
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中国电科芯片研究院生产的JGD提拉单晶炉是一种上称重自动直径控制激光单晶炉,它实现了提拉法晶体全自动智能生长控制。利用JGD提拉单晶炉控制软件建立提拉法晶体数学模型,晶体生长全程以数学模型为标准,以晶体质量为控制量进行实时闭环反馈控制。该软件建立的晶体数学模型有四段式晶体数学模型和任意多段晶体数学模型两种形式。在设计放肩段时,四段式晶体数学模型充分体现了晶体籽晶段与放肩段、等径段三位一体平滑过渡的理念;而任意多段晶体数学模型在曲线设计上更加灵活多样,晶体数学模型设计更便捷。JGD提拉单晶炉控制软件晶体数学模型被广泛用于多种晶体生长过程,如InSb、YAG 等晶体。晶体外形控制良好、品质优良。 相似文献
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