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介绍了用X射线反射测量术表征双层薄膜中低原子序数材料特性的方法。由于低原子序数材料的光学常数与Si基板材料的光学常数非常接近,用X射线反射法确定镀制在Si基板上的低原子序数材料膜层结构的变化十分困难,因此,提出了在镀制低原子序数材料前,首先在基板上镀制一层非常薄的金属层的方法。实验中,选用Cr作为金属层材料,制备并测试了三种不同C膜镀制时间的Cr/C双层薄膜。反射率曲线拟合结果表明,C膜密度约为2.25 g/cm3,沉积速率为0.058 nm/s。 相似文献
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用碳气凝胶作电极材料制作双电层电容器 总被引:3,自引:0,他引:3
双电层电容器具有极大的电容量和优良的充放电性能,这种新型储能器件有着广泛的应用前景。用微结构可控的纳米多孔导电材料碳气胶作为电极制作的双电层电容器的比电容达25F/g,其内阻在1Ω以下,漏电流小于1mA。 相似文献
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铝衰减膜表面氧化对软X光透过率的影响与修正 总被引:1,自引:0,他引:1
对用不同方法制备的软X光激光实验用的Al衰减膜样品,用Auger电子能谱(AES)结合氩离子束刻蚀进行了组分的表面和深度分布分析,结果表明表面氧化层主要由Al2O3组成,氧化达到饱和时的氧化层厚度≈7.5nm。由于在软X光波段内,氧的吸收系数比铝大一个多数量级,这一氧化层对软X光透过率的影响甚大。将AES测试结果作为参数,使用公式I=I0·exp[-μ(E)·(ρd)]对X光透过强度进行修正。同步辐射软X光对样品透过率的直接测量表明,对于透过率大于20%的Al膜,直接测量结果与按修正公式计算的结果在最大偏差11%范围内符合。 相似文献
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最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响 总被引:3,自引:3,他引:0
选用能制备小周期的钨/硅(W/S i)作为膜层材料对,着重研究最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响。基于矩阵法计算多层膜反射率和单纯形数值优化方法,设计了入射光子能量为8.0keV,掠入射角的宽度分别为0.85°~1.10°,1.40°~1.70°的X射线超反射镜。结合实际实验制备技术,考虑了W/S i两种膜层材料的最小成膜厚度,确定了膜堆中最小膜层厚度为0.5nm~1.0nm。通过改变最小膜层厚度的值,优化设计了上述条件下的非周期多层膜并对其光学性能进行比较。结果表明:同一个工作波长下,随着多层膜工作角度(掠入射)的增加,膜堆中膜层的厚度减小,最小膜层厚度对其光学性能的影响增加,其光学性能变差。 相似文献
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用直流平面磁控溅射方法在抛光玻璃衬底上淀积 Mo薄膜 ,将薄膜在真空环境中进行热处理 ,用扫描探针显微镜 ( SPM)方法观察了薄膜的表面形貌 ,X-射线衍射方法分析了薄膜中应力各向异性特征及其与淀积时溅射气体压强和真空热处理的关系。发现薄膜中晶粒具有明显的择优取向 ,内应力沿径向对称分布 ,切向应力比径向应力更具有压应力特性 ,应力的各向异性特征与溅射原子的入射方向有关。真空热处理对薄膜中压应力的释放作用不明显 ,然而能有效地释放薄膜中的张应力。用 HF酸腐蚀衬底的方法制备了自支撑 Mo薄膜 ,发现脱膜前后薄膜表面微观形貌未产生大的变化。 相似文献
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OH^—和氧离子杂质在BaF2晶体辐照损伤的影响 总被引:2,自引:1,他引:1
从理论和实验两方面研究OH^-和氧离子杂质为BaF2晶体辐照损伤的影响,并对其机理进行讨论,理论上用HFS-DVM-Xα)局域密度离散变分法计算OH^-和氧离子杂质心在BaF2中的电子结构,得到OH^-,Hs^-(U心),Os^-,Os^2-和(Os^2--F^+)都可能是引起辐照损伤的源泉。实验发现,BaF2晶体水解处理后,OH^-和氧离子杂质很容易进入BaF2,在晶体中的存在形式主要是:OH^ 相似文献
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5月15日,南通电信10000客户服务中心接到通知,要求紧急调集人员,承接绵阳114话务,确保生命线畅通。10000号迅速抽调15名话务员,成立了一线支援小分队,和号百中心的同事们共同承接绵阳114话务。经过短暂的培训,中午12时,10000号支援小分队就已坐上台席,开始承接绵阳114话务。大家的心中只有一个想法:排除万难,帮助灾区人民,通过我们的转接,接通他们的生命线。 相似文献
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正房建项目管理是一个复杂的过程,房建施工企业的最终目标是实现最大化经济效益,成本便是最终效益的决定因素,但是企业在工程项目的成本控制方面却很薄弱。随着国家经济的快速发展,房建施工企业如何以房建项目管理为中心,提高工程质量,保证工程进度,降低项目成 相似文献