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1.
利用自组织生长和选择化学刻蚀方法在超薄SiO2隧穿氧化层上制备了渐变锗硅异质纳米晶,并通过电容.电压特性和电容-时间特性研究了该纳米结构浮栅存储器的存储特性.测试结果表明,该异质纳米晶非易失浮栅存储器具有良好的空穴存储特性,这是由于渐变锗硅异质纳米晶中Ge的价带高于Si的价带形成了复合势垒,空穴有效地存储在复合势垒的Ge的一侧.  相似文献   
2.
陈裕斌 《城市建筑》2013,(16):161-161
建筑业是国民经济发展的重要行业,其经济审计的真实性在很大程度上影响着国家经济的发展。本文主要阐述了建筑施工企业内部经济审计的类别,探讨了经济审计失真的原因,同时针对失真采取措施并进行了分析。  相似文献   
3.
3C行业的不断发展,催生了对高密度、持久保存、快速擦写、鲁棒可靠性的非易失性存储器(如flash)的持续需求,促使我们在科研上不断地深入研究新材料、新工艺。在本文中,我们首次采用了区别于传统CMOS工艺的两步工艺方法来制作金属纳米晶非易失性存储器。这种方法,由于将金纳米晶的化学合成和后续组装分离开来,所以能够独立地调节纳米晶的尺寸和组装密度,而且可以很好地避免一直困扰的金属扩散问题。最终的形貌表征和电学测量结果,证实存在一个最优化的纳米晶密度--在这个最优化条件下,我们的存储器件,既有持久的保存时间,又有较大的存储窗口。而组装密度的可调,同时可以满足我们对于大的存储窗口/较长保存时间某一方面的偏好。这些实验结果,都很好地证明了我们两步工艺方法的可行性。  相似文献   
4.
将Langmuir-Blodgett(LB)膜等化学方法应用于非挥发浮栅存储器制备工艺中.采用反相微乳液方法合成的分散良好的PtAu纳米颗粒粒径约为5m,并应用LB膜方法在存储器隧穿氧化层上制备了PtAu纳米颗粒的单层膜.采用SEM对LB膜的表面形貌进行观测,研究了表面压对成膜质量的影响,结果表明在表面压为15mN/m时可获得密度为10^11cm^-2均匀分布的PtAu纳米颗粒单层二维阵列,可应用于非挥发性金属纳米颗粒浮栅存储器,并成功拓展了LB膜等化学方法的应用范围.  相似文献   
5.
A novel two-step method is employed,for the first time,to fabricate nonvolatile memory devices that have metal nanocrystals.First,size-averaged Au nanocrystals are synthesized chemically;second,they are assembled into memory devices by a spin-coating technique at room temperature.This attractive approach makes it possible to tailor the diameter and control the density of nanocrystals individually.In addition,processes at room temperature prevent Au diffusion,which is a main concern for the application of...  相似文献   
6.
利用自组织生长和选择化学刻蚀方法在超薄SiO2隧穿氧化层上制备了渐变锗硅异质纳米晶,并通过电容.电压特性和电容-时间特性研究了该纳米结构浮栅存储器的存储特性.测试结果表明,该异质纳米晶非易失浮栅存储器具有良好的空穴存储特性,这是由于渐变锗硅异质纳米晶中Ge的价带高于Si的价带形成了复合势垒,空穴有效地存储在复合势垒的Ge的一侧.  相似文献   
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