n型GaAs MESFET沟道特性的研究

报道了ｎ型ＧａＡｓ ＭＥＳＦＥＴ漏源电流Ｉｄｓ和栅源电压Ｖｇｓ间的关系,发现在负栅压状态下,沟道特性分四个区域：过调制区、线性调制区、过渡区和夹断区,并且零栅压饱和漏源电流大的器件线性调制区的范围较大,过渡区的范围较小。     

背栅效应对GaAsMESFETV_(th)均匀性的影响

研究了背栅效应对全平面选择离子注入自隔离ＧａＡｓＭＥＳＦＥＴ的阈值电压及其均匀性的影响．结果表明,背栅效应使ＧａＡｓＭＥＳＦＥＴ的阈值电压绝对值变小,均匀性变差．