线性级联溅射的机理和主要结果

一、溅射的定义和分类荷能粒子轰击时固体表面被腐蚀的现象称为“溅射”。确切地说,不是粒子轰击靶表面的所有侵蚀现象都定义为溅射,高剂量或高能量粒子流轰击时,靶体宏观加热引起的材料蒸发和表面起泡引起的侵蚀,以及吸附在靶表面上的气体的轰击脱附,通常都不当作溅射。溅射的侵蚀作用主要是用“溅射产额”Y表征的,它定义为每个入射粒子溅射出来的平     

空间菲涅耳透镜的材料与工艺要求分析

该文根据空间菲涅耳聚光透镜的使用要求和空间环境条件，比较了现有光学材料的性能特点，分析了材料折射率、透镜尖劈尺寸和面形误差对透镜光学的影响，进而对透镜成型和安装工艺提出了要求。     

考夫曼型离子源工作稳定性研究

用于离子束辅助轰击镀膜的考夫曼型变孔径球面栅离子源,由于缩小了体积,散热条件不好,离子源启动后温度迅速上升,陶瓷绝缘子的绝缘强度迅速降低,永久磁铁的磁场强度也下降,致使离子源的连续有效工作时间不足半小时。采用多处屏蔽后,延长了陶瓷绝缘子和磁棒处于较低工作温度的时间,使离子源的连续有效工作时间达到了一小时,基本满足了辅助轰击镀膜的要求。     

合成金刚石的某些方法评介

首先扼要阐述了与金刚石薄膜制备技术有关的等离子体特性,随后着重介绍了金刚石薄膜制备技术的最新进展。根据沉积工艺参数和装置的结构评价了各种技术的优缺点。最后指出了目前这些技术中存在的问题。     

离子束辅助沉积薄膜结构的计算机模拟

利用蒙特卡罗法.分析了薄膜柱状结构的成因。通过不同工况薄膜生长的计算机模拟,证明了阴影效应和沉积原子有限迁移是导致柱状结构的原因。采用离子束辅助沉积工艺,可使膜层聚集密度明显提高.柱状结构完全消失。     

空间用宽截止长波红外带通滤光片的设计与镀制

针对空间用宽截止长波红外带通滤光片具有通带内平均透射率高、抑制带截止深度深、波纹系数小,可适应复杂环境条件、具有高稳定性和高可靠性等特点,论述了宽截止长波红外带通滤光片的设计原则和方法.采用"会聚光红外光学系统"和等离子体辅助沉积工艺成功镀制了空间用宽截止长波红外带通滤光片.指出等离子体辅助沉积工艺更有利于长波红外滤光片膜层的显微结构改善和残余应力的消除.     

点胶成形导电橡胶在电磁屏蔽技术中的应用

点胶成形导电橡胶是一种新型的高性能电磁屏蔽复合材料,被专门设计成流体状态,以满足自动化生产中,金属或塑料外壳上应用导电弹性体的大批量、高速度增长需求.相比于传统模压或挤出工艺制备的导电橡胶材料,其独特的使用方式、准确的安装定位性能和高屏蔽性能,非常适用于具有精细和复杂结构壳体的电磁屏蔽和环境密封.在现有的抑制EMI的应用中,点胶成形导电橡胶技术因总成本最低而得到越来越多的应用.介绍了点胶成形导电橡胶的特点、使用方法、设计安装要点和国内外的研究及应用现状.     

MHD角速度传感器磁场设计研究

MHD角速度传感器是在轨进行高精度角颤振测量的关键器件。通过对2种MHD角速度传感器进行对比研究,确定径向磁场方式的传感器为更适宜我国当前空间发展需要的MHD角速度传感器。并设计了其径向磁场结构,获得在导电流体间隙处需要的磁感应强度,测试结果与模拟设计结果一致,为MHD角速度传感器研制奠定了一定的基础。     

工艺参数对纳米颗粒Cu/SiO_2复合薄膜结构和光谱特性的影响

用离子束溅射法制备了具有反常光吸收特性的纳米颗粒CU／SiO2复合薄膜。获得了在离子来参数一定时，基片温度、膜料的沉积时间和镀膜后的保温时间等工艺参数对这种薄膜结构和光学特性的影响规律，并对纳米颗粒Cu／SiO2复合薄膜的反常光吸收特性作了计算和解释。     

MgO载体化学气相沉积法制备碳纳米管的影响因素

用MgO载体化学气相沉积(CVD)技术制备了碳纳米管(CNTs).并用扫描电镜(SEM)、高分辨透射电镜(HRTEM)和微区拉曼光谱仪研究分析了各种沉积条件下CNTs的形貌结构.对CVD法制备CNTs的主要影响因素如碳源气体种类、沉积温度和Fe催化颗粒在MgO载体中的百分含量进行了分析讨论.