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1.
在真空断路器的一个电极中将几个真空灭弧室并联,可以提高断路器的额定工作电流和短路开断电流。在这方面已经进行过一些试验。本文将给出这些试验的结果。我们将会看到,在断路器的整个使用寿命过程中,在触头闭合时,哪些因素能使几个灭弧室之间的分流值达到要求。而且,我们还对触头分离时几个灭弧室之间的分流情况进行了研究。研究结果表明:采用纵磁场(AMF)触头的真空灭弧室效果比较好,而触头分离过程中延迟时间很长时将会对几个灭弧室之间的电流分配产生影响。  相似文献   
2.
本文提供了一些老炼和试验方法来预测商用真空灭孤室的绝缘强度。并将这些方法与传统的“上下”方法进行了比较。这些方法已成功应用于商用灭孤室中。  相似文献   
3.
为了将开断能力提高一倍,每一级可将两个真空断路器串联,这样的结构应用于一些特殊的场合,通常在这种结构中,都要加一个接地电容,以保证电压线性分布,并降低瞬态恢复电压的升高速率,有时由于空间不足或为了降低成本等方面的原因,也采用一些其他的方法,而不使用接地电容,这篇文章中我们将讨论接地电容对开断能力的影响,并将有接地电容时的情况与电压非线性分布时,即无任何接地措施时的“自接地”情况进行比较,我们要关注的重点是真空灭弧室发生的第一次重燃时,这两种结构所显示的瞬态恢复特性有何不同。  相似文献   
4.
本文对电极分离时小电流直流真空电弧的产生过程及其寿命进行了试验、研究。试验中采用铜电极,电弧电流定为小于50A。试验中测量出了在电弧产生过程及燃弧期间电极的电压和电流的波形。测量结果表明:电弧寿命与电弧电流和直流源输出电压有关。可以看出,为了产生电弧,在电极分离时,电极间必须有一个大于某临界值的电压。电弧产生后,电弧电压电一个大约20V的直流电压和一个高频交流电压迭加组成。而电弧电流的同一个直流电流与一个高频交电流合成。在此次试验条件下,电流寿命很短,不到Is,但它会随着电弧电流和电流源输出电压的增大而增大。  相似文献   
5.
真空灭弧室的真空性能其制造的关键。真空灭弧室在三十多年的寿命期内要保持高真空,就必须对其最大漏气率和内部放气量提出严格要求。  相似文献   
6.
额定电压12kV的真空接触器在电力开关设置中主要用于开合电动机。西门子目前通过开发3TL71型真空接触器,已将其真空接触器的电压等级范围扩大到24kV。接触器首次应用于德国北京Emsland的超高速铁路运输系统的鉴定过程和超高速试验装置的现代化。  相似文献   
7.
在真空断路器中利用纵磁触头,可以开断较大的短路电流。与电孤孤柱中的电流平行的磁场可以影响电孤的模式,并进而提高开断容量。无论触头的设计为何种结构,这种磁场在触头表面上是朝向各个方向的。在本文中,我们介绍的是双极性和四极性纵磁触头的特性测量结果。对于双极性触头来讲,磁场的极性变化了一次,对于四极性触头,磁场的极性变化了两次。由于涡流的路径不同,因此,四极性触头在电流零点时的残余磁场就要强得多。我们通过测量孤后电流,研究了这两种触头结构的开断容量。  相似文献   
8.
我们用一个高速视频摄象机来观察螺旋触头上的电弧特性,发现电弧的运动有三个阶段,第一阶段为电弧产生后立即出现的电弧缓慢运动期,在这个阶段,电弧渐渐开始运动,运动速度小于10m/s,第二阶段为加速期,第三阶段为电弧高速运动期,此时,电弧的旋转速度大于50m/s。我们可以看出,电弧缓慢运动期的持续时间和电弧高速运动期的速度与触头的形状有关。研究结果如下:(1)螺旋触头的电弧缓慢运动期越短。它的开断能力越大。(2)在电弧缓慢运动期,在电荷转移到开断触头上时,成功开断与失败开断之间有一个界限。(3)这个开断界限与触头材料有关,从以上研究结果我们可以得出结论:在电弧缓慢运动期内,转移电荷会影响电流零点的触头间隙。  相似文献   
9.
本厂机加工分厂在滚制FA423、A07-101滚花罗拉时(材料为45T)、在三个工件上发现有硬质条纹。其中一件有宽5~7mm、长15~20mm四条,另一件上有5×10mm一条,第三件上有5×8mm一条,由于条纹硬度很高,将两副价值各3000多元的滚轮因崩齿而报废。为此进行了质量分析。l罗拉上硬条的定性分析我们在硬条处取样进行了理化分析。其结果为:硬条处硬度为57~6lHRC,其他处硬度23~29HRC;将试样用硝酸酒精溶液或盐酸溶液侵蚀,硬条处与周围基体界限分明。通过光谱仪分析,硬条处成分和基体成分是一致的,经金相分析,确定了硬条处的组织为淬…  相似文献   
10.
我们研究季CuCr触头中Cr的含量在12.5% ̄75%(重量比)范围内变化时,CuCr触头对电流开断后的电流开断能力、电弧形态、阳极熔融时间和触头侵蚀的影响。研究结果表明:当Cr含量在上述范围内变化时,其含量越低,电流开断能力就越好。也证明了Cr含量减少时,电流开断后电弧的集聚时间和阳极熔融时间变短,而CuCr触头的 侵蚀却增大。根据这点,我们便会预想到灭弧室所用CuCr触头的Cr含量应有一最佳值  相似文献   
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