溅射功率及氧通量对铝掺氧化锌(ZAO)薄膜结构性能的影响

运用射频磁控溅射技术,通过改变溅射功率及氧通量获得不同ZAO薄膜样品,采用X-射线衍射仪以及扫描电子显微镜对薄膜结构性能进行表征。     

透明氧化物半导体薄膜的制备技术及理论基础

为了进一步提高透明氧化物半导体薄膜制备水平,提高半导体薄膜的利用率,现以磁控溅射法应用为例,介绍了磁控溅射的具体应用,从衬底清洗、衬底反溅、溅射镀膜三个方面入手,分析了透明氧化物半导体薄膜制备的实验过程.结果表明,磁控溅射法具有非常高的可靠性和可行性,不仅增加了气体的离化率和溅射率,还保证了薄膜表面的平整性和光滑性,为进一步提高沉积镀膜的规模和透明氧化物半导体薄膜制备水平打下坚实的基础.