首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   1篇
  免费   0篇
一般工业技术   1篇
  2000年   1篇
排序方式: 共有1条查询结果,搜索用时 31 毫秒
1
1.
在(111)Si基底上直接溅射合成PbTiO3薄膜以及Pb损失的抑制   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用射频磁控溅射系统,采用Ti、Pb组合靶,以O2为反应气体,在(111)Si基板上直接沉积PbTiO3薄膜,通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中采用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的结构和组成以及光学和电学特性的测试1分析得出:在535℃时沉积、溅射后直接充入107Pa的氧气并且以3℃/min的速率降至室温,制备出了性能较好的具有钙钛矿结构的PbTiO3薄膜,并对薄膜的形成  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号