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本文报告了核工业西南物理研究院最近研制开发的新一代全方位离子注入及增强沉积工业机。该机直径 90 0 m m,高 10 5 0 m m,立式放置 ,抽气系统由分子泵及机械泵构成并且实现了 PL C控制 ,本底真空小于 4× 10 - 4Pa。气体和金属等离子体可分别由热阴极放和三个高效磁过滤式金属等离子体源产生。真空室顶部预留了法兰口并配有冷却靶台。该机的负高压脉冲幅值为 10~ 80 k V,重复频率为 5 0~ 5 0 0 Hz,脉冲上升沿小于 2 μs,并且可根据需要产生脉冲串。一般地等离子体密度为 10 8~ 10 1 0 cm- 3,膜沉积速率为0 .1~ 0 .5 nm/s。文中亦报道了一些实验结果 相似文献
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报道了等离子体源离子注入 (PSII)或等离子体浸没离子注入 (PIII)及增强沉积工业机的实验结果及应用。该机真空室直径 90 0mm ,高 10 5 0mm ,立式放置 ,抽气系统由分子泵及机械泵构成并且实现了PLC控制 ,本底真空小于 4× 10 - 4Pa。等离子体由热阴极放电或三个高效磁过滤式金属等离子体源产生 ,因此可实现全方位离子注入或增强沉积成膜。该机的负高压脉冲最高幅值为 80kV ,最大脉冲电流为 6 0A ,重复频率为 5 0— 5 0 0Hz ,脉冲上升沿小于 2 μs,并且可根据需要产生脉冲串。其等离子体密度约为 10 8— 10 10 ·cm- 3,膜沉积速率为 0 .1— 0 .5nm/s。 相似文献
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报告了核工业西南物理研究院最近研制成功的改进型PSII―IM全方位离子注入工业样机。该机的真空室由不锈钢制成,其直径为1000 mm,长 1070 mm,采用多极会切磁场约束产生的等离子体。该机抽气系统由低温泵、扩散泵和机械泵组成。本底真空度小于 2×10- Pa。真空室内的气体等离子体可由热灯丝或射频放电产生, 4另外还配置了 4 个金属等离子体源、两套磁控溅射靶和冷却靶台。所以该机可以实现全方位离子注入或增强沉积薄膜。该机的负高压脉冲幅值为 10~90 kV, 重复频率为 50~500 Hz, 脉冲上升沿小于2 μs。一般情况下等离子体密度为 108~1010 cm- , 膜沉积速率为 30.1~1.0 nm/s。并给出了一些实验结果。 相似文献
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