非晶硅光敏材料的高电阻率化研究

本文研究了用于制造非晶硅感光鼓的高阻非晶硅光敏材料，通过微量掺Ｂ、Ｏ，控制ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜中的ＳｉＨ２和ＳｉＨ基团的组成比，有效地实现了非晶硅材料的高电阻率化，其暗电阻率ρｄ≥１０＾１３Ω·ｃｍ，在可见了光至近红外光范围内，具有很高的单色光电导增益，σｐｈ／σｄ≥１０＾３。分析了ａ－Ｓｉ：Ｈ［Ｂ、Ｏ］材料ＩＲ谱的特征，说明了氧原子和硅－氢基团对微结构的影响及其在支配非晶硅光电性能方面的重要作用。     

掺氧非晶硅的正电子寿命研究

在室温下测量了掺氧非晶硅薄膜的正电子寿命谱．实验发现，随着掺氧量的增加，正电子寿命减小，对应的相对强度增加．据此，本文从电子密度、悬挂键和微空洞等方面讨论了氧掺杂对非晶硅薄膜微观结构的影响．     

液相掺杂法可提高ZnO压敏电阻器的性能

用液相掺杂法制备的粉体制成了ＺｎＯ压敏电阻器。ＳＥＭ测试分析及密度测试结果证明,瓷片的微观结构得以改善,从而提高了ＺｎＯ压敏电阻器的性能,其中非线性系数达到６７,通流能力为传统法制作的ＺｎＯ压敏电阻器的２倍。