磁激活等离子体增强化学气相沉积设备的研制

针对PECVD中等离子体的密度沿径向分布均匀性较差、空间气氛化学活性较差的问题,在PECVD的基础上加入电子发射源和正交电磁场以控制电子的运动,从而增强等离子场的强度和范围,使反应场的活力增加,以提高反应空间的活化能力,继而提高膜层质量.结果表明,该方法可以使等离子场的分布发生改变,使等离子体密度及范围做到可控制且可调整.     

电化学抛光NiTi合金表面性能的研究

提出了一种改进的电化学抛光液（冰醋酸．高氨酸-A-B），并采用此抛光工艺对NiTi合金伍．50．8％（原子分数）Ni）进行电化学抛光．与机械抛光作对比，研究了两种抛光技术对合金表面光洁度的影响，并利用电化学方法研究了抛光技术对合金在Hanks’溶液中腐蚀性能的影响．研究结果表明，此工艺下的电化学抛光有效降低了NiTi合金的表面粗糙度，光亮度近似镜面状态．与机械抛光相比，电化学抛光更好地提高了NiTi合金在Hanks’溶液中的耐腐蚀性能。     

电化学抛光对NiTi支架生物相容性的影响

针对目前NiTi支架电化学抛光表面形貌不理想的情况, 提出了一种改进的电化学抛光方法(冰醋酸-高氯酸-A-B), 并采用此抛光工艺对NiTi支架(Ti-50.8at.%Ni)进行了电化学抛光. 采用扫描电子显微镜(SEM)表征了抛光工艺对NiTi支架表面形貌的影响, 并利用电化学方法研究了不同表面处理(电化学抛光、机械抛光、酸洗)对同种成分的NiTi试片在Hanks'溶液中腐蚀性能的影响. 研究结果表明, 此工艺下的电化学抛光有效降低了NiTi支架的表面粗糙度, 改善了表面质量;电化学抛光的NiTi试片在Hanks'溶液中耐蚀性的提高也为电化学抛光NiTi支架的应用提供了实验依据.     

NiTi合金电化学抛光工艺

为了探索较为理想的NiTi合金电化学抛光工艺,采用一种改进的冰醋酸-高氯酸基抛光液,对其进行了电化学抛光.采用SEM和表面轮廓仪考察了抛光液成分以及各工艺参数对NiTi合金微观形貌和表面粗糙度的影响.试验结果表明,抛光液成分在电化学抛光中起着关键的作用,并且当电流密度为1.0A/cm2、抛光液温度为0 ℃、抛光时间为45 s、阴阳极间距为1.5 cm时,电化学抛光效果比较理想,表面粗糙度降为70 nm左右.与未抛光试样相比,电化学抛光后NiTi合金表面光滑均匀,基本无缺陷.