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用射频磁控溅射法在室温Si基片上制备了60.7~1545.0nm范围内不同厚度的MgF2薄膜,并用X射线衍射及激光干涉相移技术对不同厚度MgF2薄膜微结构和应力分布进行了测试分析。结构分析表明:制备的MgF2薄膜呈多晶状态,仍为四方结构;随膜厚由420.0nm增加到1545.0nm,膜的平均晶粒尺寸由3.2tim逐渐增大到14.5nnl。应力研究表明:所制备的MgF2薄膜在Ф≠30mm选区内全场平均应力均表现为张应力;随膜厚增加,MgR薄膜中的平均应力值起始时呈近似线性缓慢减小,当膜厚大于1200nm时,其选区平均应力及应力差基本趋于稳定。 相似文献
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用直流磁控溅射法制备了氧铟锡(ITO)薄膜。采用XRD、TEM、XPS对薄膜的微结构和化学组分进行了测试分析。分析结果表明:制备的薄膜中,Sn元素已固溶到In2O3晶格形成了多晶ITO。延长退火时间,薄膜的结晶度增加,SnO被氧化为SnO2并逐渐达到饱和,薄膜表面先失氧后附氧,膜中氧空位含量先增加后减少。退火1h后,薄膜具有最低电阻率(6×10-4Ω.cm)和高可见光平均透射率(93.2%)。 相似文献
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For the study of magnetic field-assisted assembly behavior, one-dimensional (1D) NiCo alloy nanostructures were solvothermally obtained at 180 °C under an in situ magnetic field (the magnetic field as applied during the chemical reduction) and ex situ field (after the chemical reduction was finished). Microscopic morphology and magnetic properties differences were investigated using scanning electronic microscope (SEM) and vibrating sample magnetometer (VSM) for these products. Magnetic measurement results show that 1D ordered microstructures under in situ magnetic field possess higher saturation magnetization Ms, remnant magnetization Mr, coercivity Hc and reduced magnetization Mr/Ms than 1D ordered microstructures under ex situ field, and the four magnetic parameters of the two ordered microstructures are much higher than those randomly distributed alloy particles prepared in the absence of external magnetic field. 相似文献
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基于小波统计分析的X射线衍射信号消噪研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文讨论了小波统计分析的X射线衍射信号消噪方法,选取具有7阶消失矩的Symmlet小波将受噪声污染的X射线衍射信号进行多层分解,利用小波变换的细节系数估计噪声均方差σ,选取阈值σ√2lnn(n为细节系数长度),对小波分解的细节系数进行阈值处理,然后进行信号重建,以达到对信号消噪和提纯,实验结果表明,这种去噪方法是非常有效的,它在消除噪声的同时保留了信号的奇异特征。 相似文献
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用化学共沉法制备了纳米Co0.7Fe2.3O4粉末,用射频磁控溅射镀膜法制备了纳米结构的Co0.7Fe2.3O4薄膜。采用X射线衍射仪及振动样品磁强计对不同热处理温度的样品进行了结构和磁性分析,结果显示,Co0.7Fe2.3O4薄膜的比饱和磁化强度略低于粉体材料,矫顽力高于粉体材料,并且晶粒明显细化。650℃退火薄膜具有最大矫顽力125.2kA·m-1。550℃退火薄膜可同时获得较高的矫顽力和较高的比饱和磁化强度。Co0.7Fe2.3O4薄膜还具有平行膜面方向的择尤取向。 相似文献