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CVD法与PCVD法TiN薄膜研究 总被引:6,自引:0,他引:6
用等离子增强化学气相沉积(PCVD)法和化学气相沉积(CVD)法分别制备TiV系薄膜。采用扫描电镜、X射线衍射仪和连续加载压入仪研究分析薄膜的微观结构、相结构和薄膜的力学性能,并采用电极电位法测定了薄膜的耐腐蚀性能,研究表明,PCVD法TiN系薄膜的微观组织形态明显优于同类的CVD法薄膜,PCVD法薄膜晶粒尺寸细小,均匀,形态圆整,组织致密;CVD法薄膜晶粒形态为多边形,尺寸较粗大、不均匀,组织致密性差,PCVD法TiN系薄膜的声望生和结合力等力学性能可达或优于同类CVD法薄膜,虽然PCVD法薄膜的氯含量(约为2%)远主CVD法薄膜(约为0.5%),但PCVD法薄膜的耐蚀性能却明显优于CVD法薄膜,还研究分析了PCVD法和CVD法成膜模式对薄膜微观结构和性能的影响机理。 相似文献
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