基于PLC的原子沉积设备控制系统设计与实现

目的 为提高原子沉积镀膜工艺的可靠性,稳定薄膜质量,设计基于可编程逻辑控制器(PLC)的一种原子层沉积设备控制系统。方法 针对工作原理和工艺需求,根据传感器和执行器的特点,确定了以西门子S7–200 Smart PLC为控制器,以昆仑通态1070Gi触摸屏作为人机界面的硬件系统方案,实现所有逻辑控制;并利用PLC的晶体管输出端子,采用“PID+PWM”技术进行加热区域温度控制。结果 该控制系统实现了原子沉积镀膜一键操作,保证了镀膜过程中高精度温度均匀性要求(±1℃),确保了设备的可靠性和沉积薄膜的可重复性。结论 经实际应用,证明该控制系统具有稳定性好、误差小、自动化程度高等优点,达到了工艺要求。