多弧离子渗镀CoNiCrAlTaY涂层的研究

本文采用多弧离子渗镀技术,在镍基高温合金基片上获得扩散层和沉积层,形成了既有扩散层又是等轴晶组织的CoNiCrAITaY抗高温氧化涂层;分析了涂层和界面的成分、组织形貌;进行了静态氧化试验。     

多弧离子镀镀制掺氮二氧化钛薄膜及其光吸收特性的研究

利用多弧离子镀在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜和氮掺杂的TiO2薄膜样品，并对样品进行了220～500℃温度的热处理，通过X射线衍射（XRD）以及UV—Vis分光光度计等测试手段对热处理前后的样品的结构、光吸收特性进行了分析。结果表明：制备出的薄膜为非晶态结构，热处理后向锐钛矿、金红石相转变。理想工艺下镀制的掺氮TiO2薄膜经400℃热后，TiO2薄膜的光吸收限可由385nm红移至500nm。     

多弧离子镀膜机靶源电磁场的研究

多弧离子镀设备蒸发源的电弧放电受外加磁场的严格控制，靶面处不同的磁场分布 具有不同的电弧放电形貌，这样，靶面处磁场强度的计算显得特别重要。本文基于多年 科研实践和研究生论文试验对电磁线圈在靶面各处产生的磁场强度的计算进行了理论推 导和研究，建立了数学模型，并进行了比较精确的磁场计算。计算值与实测值较好地相 吻合。该计算可作为多弧靶设计的依据。     

真空电弧放电稳定性

本文研究了真空阴极电弧放电过程中阴极电弧源工作稳定及其影响因素,研究了真空电弧斑的产生及运动规律。     

降解工业废水用二氧化钛光催化剂性能研究

采用溶胶凝胶法,在泡沫镍载体上制备了掺杂硫脲的TiO2光催化剂。使用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜、同步热分析仪(TG-DTG)和紫外-可见分光光度计(UV-Vis)等测试手段,对TiO2光催化剂的结构、光催化性能进行了分析,并通过降解甲基橙的光催化实验,探讨了掺杂、热处理以及载体对TiO2光催化剂结构与光催化活性的影响。研究结果表明,适量掺杂硫脲、适当的热处理可以提高TiO2光催化剂的光催化活性;泡沫镍负载型TiO2光催化剂的光催化活性高于TiO2粉体光催化剂。     

采用真空电弧源镀制纳米TiO2薄膜研究

在真空条件下利用真空电弧源在不同基底材料上镀制了TiO2薄膜.对影响镀膜过程和膜层质量的氧气工作压强和偏压等因素进行了研究.X射线衍射结构分析结果显示TiO2薄膜主要以锐钛矿相为主及少量的金红石相.对TiO2薄膜的物理性质、化学性质进行了初步检测.     

多弧离子渗镀MCrAlY涂层研究

首次研究采用多弧离子渗镀技术在镍基GH220基材上渗镀抗氧化、耐腐蚀的CoCrAlYTa涂层。分析了工艺参数对涂层成分、组织结构和沉积速率的影响。选定了最佳工艺参数。得到了有扩散层,又是等轴晶组织的MCrAlY涂层。该涂层具有优良的抗氧化性能。     

多弧离子渗金属技术

本文用阴极电弧源做离子金属源，源极的靶材用Ti,Ai，不锈钢制铸，源因产生冷阴极弧光放电而产生金属等离子体，形成高密度的金属离子流，基板由钢材制成，施加适当的负偏压，在基板负偏压作用下，金属离子轰并加热基板至900℃或1100℃，金属原子渗入钢中形成高渗速金属层，文中侧试了渗金属层的组织形貌和Ti,Al,Cr,Ni在渗层中的分布，结果表明阴极电弧源离子湖金属技术是新的金属等离子体表面合金化技术，是对多弧离子镀的发展。     

阴极电弧源镀制TiO2薄膜的研究

在真空条件下利用阴极电弧源在不同基底材料上镀制TiO2薄膜.对影响镀膜过程和膜层质量的氧气工作压强、偏压和电流等因素进行研究.经X射线结构分析结果显示TiO2薄膜主要以锐钛矿结构为主及少量的金红石结构.对TiO2薄膜的化学性质、力学性质进行了初步检测.     

多弧离子渗金属——利用金属弧光等离子体进行表面台金化的新技术

本文作者将多弧离子镀技术发展为多弧离子渗金属技术，充分发挥了阴极电弧源产生的金属弧光等离子体的作用。获得了各种渗金属层、渗镀结合层。本文介绍了多弧离子渗金属原理和各种渗金属层的特征。