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脉冲激光沉积NiZn铁氧体薄膜的微观结构和磁性 总被引:2,自引:0,他引:2
采用脉冲激光沉积(PLD)技术,分别在单晶硅基片和玻璃基片上沉积了NiZn铁氧体多晶薄膜,薄膜为单相尖晶石结构,在两种基片上都呈现出一定的(400)晶面的择优取向,但在硅基片上择优生长更显著;随着基片温度t的升高,薄膜晶粒尺寸逐渐增大;在t=500℃附近饱和磁化强度Ms出现最小值,而矫顽力Hc出现最大值;对薄膜进行退火处理。可使细小晶粒长大和内应力减小,对改善较低温度条件下制备的薄膜的软磁特性具有明显作用。 相似文献
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采用脉冲激光沉积 (PLD)技术 ,分别在单晶硅基片和玻璃基片上沉积了NiZn铁氧体多晶薄膜 ,薄膜为单相尖晶石结构 ,在两种基片上都呈现出一定的 ( 4 0 0 )晶面的择优取向 ,但在硅基片上择优生长更显著 ;随着基片温度t的升高 ,薄膜晶粒尺寸逐渐增大 ;在t=5 0 0℃附近饱和磁化强度Ms 出现最小值 ,而矫顽力Hc 出现最大值 ;对薄膜进行退火处理 ,可使细小晶粒长大和内应力减小 ,对改善较低温度条件下制备的薄膜的软磁特性具有明显作用 相似文献
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