H2分子在Ni（100）,（110）,（111）单晶表面吸附研究

本文采用改进模型势方法，计算了Ｈ２分子在Ｎｉ（１００）、（１１０）、（１１１）单晶表面解离吸附的反应途径与位能面。通过对比研究，讨论了氢分子在镍三种单晶表面解离吸附的反应途径和位能面的一般规律与趋势。     

H_2分子在Ni（100）、（110）、（111）单晶表面吸附研究

本文来用改进模型势方法，计算了Ｈ２分子在Ｎｉ（１０Ｏ）、（１１０）、（１１１）单晶表面解离吸附的反应途径与位能面．通过对比研究，讨论了氢分子在镍三种单晶表面解离吸附的反应途径和位能面的一般规律与趋势．     

Ba+N_2O化学发光反应截面与碰撞能的关系

本工作研究了Ba+N_2O反应总化学发光截面与碰撞能的关系,得到在相对平动能0～0.3eV时,截面σ_(CL)■0.1~2.在交叉分子束装置中,He 播种的超声 N_2O 束经过斩波与扩散的金属Ba束交碰后,产生部分发光的BaO分子和不发光的N_2分子。光信号用光电倍增管和光子计数器监测。在保持喷咀温度不变下,超声束速度由播种比决定,其值由时间飞渡方法测量。超声N_2O束强度用电离规管测量。得到相对化学发光截面σ_(CL)~R=σ_(CL)(E_T)/σ_(CL)(0.1eV)■1,这与刚性转子——谐振子(RRHO)模型分析,σ~R=E_T~(-1)(E_T-E_0)~q,当取 q■1,E_0■0时一致。