化学气相沉积镀膜机控制研究

以RF-500型镀膜机为例介绍了化学气相沉积（CVD）镀膜机的结构以及工作原理;为克服RF-500型CVD镀膜机传统的电气控制缺点,开发了一套基于工业控制计算机的控制系统。描述了该镀膜机控制系统的硬件结构和软件功能。对基片温度、气体流量及开关量的控制效果进行了大量的实验研究。结果表明：基片温度控制精度达到±1℃、工作（反应）气体的流量控制精度达到10mL/min,可以进行精确的开关量控制。应用表明：该控制系统可以实时监控RF-500型CVD镀膜机的运行。