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1.
采用多元等离子体浸没离子注入与沉积装置制备Ti-Al-Si-N涂层,借助X射线衍射仪、X射线光电子能谱、透射电子显微镜、纳米探针和原子力显微镜等系统研究涂层界面微结构与力学性能。研究结果表明:Ti-Al-Si-N涂层具有Si3N4界面相包裹TiAlN纳米晶复合结构,Si元素掺杂诱发涂层发生明显晶粒细化效应。随涂层Si含量增加,TiAlN晶粒尺寸显著降低,界面Si3N4层厚度增加。当Si3N4界面层厚度小于1nm并与TiAlN晶粒共格外延生长时,Ti-Al-Si-N涂层表现超高硬度约40GPa,当Si3N4界面相厚度增至2nm并呈非晶态存在时,涂层硬度降至约29GPa。  相似文献   
2.
CrN、CrSiN薄膜在不同介质下的摩擦学性能对比研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用中频非平衡反应磁控溅射法在单晶硅〖BF〗P(111)〖BFQ〗和不锈钢(304SS)基材上制备CrN和CrSiN薄膜;利用球-盘式摩擦磨损试验机(CSM)考察2种薄膜在不同介质(空气、去离子水、质量分数35%NaCl 溶液)中和WC/Co球对摩的摩擦学性能。结果表明:大气环境下,CrN与CrSiN薄膜的磨损机制主要是磨粒磨损;水润滑下,CrN薄膜主要因机械抛光作用,CrSiN薄膜主要因摩擦化学反应,使得摩擦因数减小;在35%NaCl 溶液中CrN薄膜易被腐蚀,由于NaCl颗粒析出以及涂层接触区域的腐蚀和磨损产物,作为第三体的润滑作用,导致摩擦磨损发生明显变化,而CrSiN薄膜不易被腐蚀,主要因摩擦化学反应,使得摩擦磨损性能发生显著变化。  相似文献   
3.
阐述了迎宾道滨水景观带设计思路,并对设计中景观带规划的各个要素进行了分析,旨在打造出一条鹤岗市新兴的景观生态廊道,塑造鹤岗市的全新形象。  相似文献   
4.
汉语培训市场日益壮大,民间资本进驻汉教市场已成为不可逆转的潮流,对此应该充分发挥民间智慧,更好的运用民间力量,建立汉语培训品牌机构,推动汉语及汉文化的传播.  相似文献   
5.
本文分析了在F/U低摩尔比条件下的加成缩聚反应机理,进一步阐述了低摩尔比反应对树脂性能的影响,提出了改进树脂性能的方法和措施,给出了国内外有代表性的低毒性脲醛树脂的制造工艺。  相似文献   
6.
本文使用PF-2新型胶合板用低毒酚醛树脂,研究了杨木和落叶松室外用酚醛胶合板的制造工艺和板材性能,并采用美国国家标准TSI-74对板进行了老化试验。  相似文献   
7.
以鹤岗市工业园区为例,结合景观生态学原理,探讨了工业园区的景观生态规划问题,解析了鹤岗市工业园区的景观生态规划思想,分析了鹤岗工业园区的设计思路,并提出了具体的可行性办法,具有一定指导意义。  相似文献   
8.
为了改善空间对接锁系在空间环境中的抗磨损和防冷焊性能,采用等离子体浸没离子注入与沉积技术在钛合金零部件表面制备类金刚石碳膜(DLC)。通过摩擦磨损试验、划痕试验、压痕试验来表征DLC膜的摩擦性能、膜-基结合力及显微硬度。结果表明,经复合强化制备的DLC膜摩擦系数低于0.15、磨损率为1.7×10-7mm3/N·m、膜-基结合力达256 mN、显微硬度为21 GPa,能够有效地提高航天用钛合金零件的使用性能。采用DLC膜和Braycote 601EF真空润滑脂的固体-油脂复合润滑方式来进一步改善DLC膜在空间应用性能,试验证实该项技术可满足空间对接锁系零部件的抗磨损、防冷焊需求。  相似文献   
9.
高压断路器是电力系统中必不可少的电气设备,断路器跳合闸回路的完好是保证断路器正常工作的必要条件.对跳合闸回路进行在线监测,是实现跳合闸回路预知性维修的前提,是保证电网安全可靠运行的关键因素.本文对跳合闸回路的工作状态与回路电流变化情况进行原理分析,并设计了跳合闸监测系统.该系统由电流采集电路、模数转换电路、主控系统和通信电路组成,完成跳合闸回路电流采集、量化、控制、过滤和发送等操作,配合使用在线监测设备监测软件,可以实现跳合闸回路实时监视和故障报警等多种功能.  相似文献   
10.
Ti-Al-N 涂层的组织结构与摩擦学性能   总被引:1,自引:1,他引:1  
目的采用多元等离子体注入与沉积(MPIIID)技术制备Ti-Al-N涂层,系统研究涂层的微观组织结构、力学性能与摩擦学特性。方法借助XRD,XPS,SEM和TEM等,观察分析Ti-Al-N涂层的微观组织结构与物相组成,采用纳米压入试验仪、布氏硬度试验仪、摩擦磨损试验仪和激光共聚焦显微镜等测试分析Ti-Al-N涂层的力学性能、膜基结合力和摩擦磨损性能。结果 Ti-Al-N涂层表现出较高的膜-基结合强度。Al元素掺杂诱发Ti-Al-N涂层发生严重晶格畸变。当Al原子数分数为6.18%时,Ti-Al-N涂层以c-TiAlN相结构为主,表现出超高硬度(达到39.83 GPa);随着Al元素含量增加,涂层中的软质h-TiAlN相结构增多,硬度随之下降。摩擦试验结果表明,低Al含量Ti-Al-N涂层的抗磨损能力良好,其主要磨损机制为磨粒磨损;高Al含量Ti-Al-N涂层的抗磨损能力较差,其主要磨损机制倾向粘着磨损。结论 MPIIID技术成功实现了Ti-Al-N涂层的低温制备与成分调控,低Al含量的Ti-Al-N涂层具有优良的力学性能和优异的抗磨损能力。  相似文献   
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