微波集成电路（MIC）中Au／NiCr／Ta多层金属膜粗糙化机理的AFM研究

Au/NiCr／Ta多层金属膜通过磁控溅射沉积在Si(111)基片上。XRD分析其晶体取向，SEM观察薄膜断面形貌，AFM研究薄膜表面粗糙度。结果表明薄膜表面粗糙度与沉积温度有关，随着沉积温度100℃→250℃的改变，薄膜表面发生从粗糙→光滑→粗糙的变化过程。根据不同的沉积温度探讨了薄膜表面粗糙化机理。     

气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评

本对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评，重点强调了等离子体辅助化学气相沉积（PCVD）的优势，进展及其在工模具领域的应用。     

同轴旋转封闭场电弧离子镀的研究

同轴旋转封闭电弧离子镀设备兼有平面电弧离子镀和同轴磁控溅射的优点，它在同轴靶上建立电弧放电，并采用旋转封闭磁场将电弧斑约束在长腰形的磁环隙内作螺旋运动，随磁路系统旋转而在阴极靶表面上产生旋转的电弧放电。靶处在镀膜室中央，结构简单，膜层均匀、操作方便。工件架安装在阴、阳极之间，其只需自转、无需公转、工件装载量多。利用本设备在手表表壳上镀制氮化钛膜层，其工艺重复性好，膜层与基体结合牢固，且靶材利用率高     

转炉合金最小成本控制模型

介绍了基于合金最小成本的转炉炼钢钢水成分调整模型工应用于宝钢炼钢在线生产控制的情况。模型给出了在满足目标成分等工艺要求下，成本最小的合金投入组合及合金投入量；计算了合金加入钢包后引起钢水温度、重量等的变化，为降低生产成本（合金投入），提高出钢成分控制精度提供了有效的途径。     

沉积方式与基体材料对TiN薄膜内应力的影响

本文研究了TiN薄膜在化学气相沉积、物理气相沉积(包括热灯丝离子镀和多弧离子镀)以及等离子增强化学气相沉积等不同生成条件下的内应力变化。并通过改变钢及硬质合金基体的化学成份和表面状态。考察了基体材料对薄膜应力的影响。在此基础上,对薄膜内应力的形成机制进行了分析讨论。     

压入深度与膜厚对薄膜与基体复合硬度及弹性模量的影响

根据高华建的复合弹性模量模型，提出了用一个测点的载荷-位移曲线计算整个压入深度内薄膜和基体复合硬度分布的方法，探讨了压入深度与膜厚对硬度与弹性模量测量值的影响，指出可由膜-基复合性能反推膜本身的性能。     

金属薄膜结合性能的评价方法研究

针对Al2O3基体上磁控溅射沉积的Au／NiCr／Ta多层金属薄膜，用压痕法、滚动接触疲劳法、摩擦力和声发射两种模式同时监测的划痕法，对比研究了金属薄膜与基体的结合性能。结果表明：压痕试验从压痕形貌上很难判断薄膜与基体是否发生剥离，压入过程中也没有诱发裂纹的产生，更无法分辨薄膜层间的分离；由于金属薄膜的塑性变形，滚动接触疲劳法很难应用于金属薄膜结合性能的表征：划痕法可应用于多层金属薄膜的特异划擦行为研究，其中摩擦力模式能反映压头进入不同金属膜层时的变化，层间声发射信号的灵敏度不如摩擦力信号，对应试验条件，摩擦力曲线存在若干以拐点为特征的载荷，摩擦力曲线上出现的拐点及拐点特征载荷值可以在一定程度上反映多层膜的层数和层厚，并可刻划出该膜／基体系承受压入载荷而不发生剥落的能力。     

短棒状纳米羟基磷灰石的湿法合成及表征

通过简单湿法合成制备了短棒状纳米羟基石颗粒，粉体在不同的温度下进行了热处理，并用红外光谱、透射电镜及X射线衍射等实验手段对组织、结构及热稳定性进行了表征。研究表明，将适当比例的（NH4）2HPO4和Ca（NO3）2晶体混合、振荡、陈化后提纯、烘干，可制备出长约30－40nm，直径约10－20nm的短棒状纳米羟基灰石颗粒，这种颗粒结构与通常的针状结构相比更接近于人体骨磷灰石（长约40－60nm，宽约20nm）；该颗粒具有较好的热稳定性，600℃以下热处理后，颗粒结构、尺寸和形貌基本不变，分散性较好；900℃热处理后，颗粒明显长大并严重团聚。     

化工部一九八七年生产工作安排意见(摘要)

一九八六年,我国取得了化工生产的好成绩。总产值预计完成514亿元,比一九八五年增长6.5％,实现了“保六争七”的增产速度,上缴利税预计完成60.5亿元,比一九八五年下降5.2％。一九八七年化工生产总的要求是,继续坚持改革、开放、搞活的方针,以提高经济