石墨粉末化学镀镍工艺研究

导电填料是构成高性能电磁波屏蔽材料和吸收材料的主要原材料。对石墨粉末化学镀镍提出采用含有浓硫酸和K2Cr2O7的溶液进行氧化、含有SnCl2的溶液进行敏化以及含有PdCl2的溶液进行活化的前处理工艺，在粒径为5～20μm的石墨粉末表面得到了均匀的高镍（wNi〉90％）低磷合金镀层，解决了石墨粉末化学镀镍难的问题。讨论了镀液中各组分含量、温度及搅拌速度对化学镀镍的影响。石墨粉末经该化学镀镍工艺处理后导电性及电磁屏蔽性能良好，是较好的电磁屏蔽用导电填料。     

新型不锈钢化学抛光剂工艺研究

叙述了一般不锈钢化学抛光溶液的基本类型和在实际应用中存在的问题。着重论述MW－6不锈钢化学抛光剂的工艺研究过程、工艺条件、质量指标及检测方法，同时介绍了它与传统不锈钢化学抛光剂的比较，经验价值，表面质量控制，应用领域及应用前景。     

石墨粉末化学镀镍及化学镀银工艺

石墨粉末经前处理、敏化和活化,采用碱性化学镀镍法镀一层镍,再化学镀连续性较好的银。讨论了化学镀镍和化学镀银各成分影响,经实验确定:镀镍石墨粉末进行两次化学镀银,可以得到外观为灰白色的银包镍粉。该粉密度小,测定其电阻率小于1.5×10-4Ω.cm,与硅橡胶制成橡胶胶料,在低频区电磁屏效能为82 dB,是一种高性能的导电导磁新型填料。     

新型导电填料镀银石墨粉末的研制

将普通片状石墨粉末经过氧化处理后,先进行化学镀铜再进行化学镀银。给出了各工艺的规范,分析了各工艺的影响因素,测试了镀层性能。结果表明,添加了银包石墨粉末的硅橡胶,其体积电阻率为2.0×10–4Ω·cm,在低频区的屏蔽效能为75dB,是一种良好的电磁屏蔽导电填料。     

浅谈不锈钢化学抛光添加剂的选择

不锈钢制品以它特殊的性能和外观越来越得到认可和使用。但要获得高的性能和外观,必须通过特殊的工艺进行处理。不锈钢电解精抛光和化学抛光是其获得精美外观的首道工序,而化学抛光以其不受零件形状、体积限制,可以改变不锈钢制品机械损伤层和应力层,提高机械强度,成本低、效率高,表面精饰效果好等特点而受到人们的青睐。在不锈钢化学抛光过程中,添加剂作为抛光液中不可忽视的成分越来越受到大家的重视和研究。1 添加剂的作用和种类 添加剂有抑制腐蚀和增亮作用,可在不锈钢表面形成复杂的吸附层,活化零件表面微凸点、钝化微凹点,使抛光有效进行。它是抛光液的粘度调节剂、缓蚀剂、腐蚀剂、活化剂和消泡剂,由于它的存在,才使化学抛光平稳进行,达到表面精饰的效果。 在早期的化学抛光配方中,添加剂主要是一些盐类。许多无硝酸的抛光配方就是以无机盐和不挥发性酸类构成的。 添加剂的种类较多,一般包括无机盐、有机盐、有机化合物、表面活性剂等。无机盐类大部分是硫酸盐、磷酸盐、硝酸盐、醋酸     

高性能环保不锈钢化学抛光剂的研制

针对常规不锈钢化学抛光刑的缺点,研制出了一种高性能环保不锈钢化学抛光剂配方。通过试验,得出了该配方的最佳工艺参数,并对影响抛光效果的因素进行了分析。经实践证明,经该工艺抛光后的工件表面可达到镜面光亮效果,而且生产过程中的废水处理简单,处理后对环境无污染。     

低碳铬材料电抛光工艺

详细介绍了低碳铬钢材料电抛光工艺，并提出了工艺操作过程中应注意的几个问题。     

化学研磨对彩色显象管电子枪零件性能的影响

彩色显象管电子枪零件一般由不锈钢材料制成，具有较高的硬度和强度。为解决电子枪零件孔口毛刺难以去除的问题，采用化学研磨工艺进行处理。介绍了化学研磨液的配方、性能及使用方法。研究了化学研磨对零件尺寸、平面度真圆度、表面粗糙度和耐压值的影响，同时研究了操作温度对研磨后零件表面光洁度的影响。化学研磨提高了电子枪零件的平面度、真圆度和耐压值，降低表面粗糙度。结果表明，化学研磨能改善电子枪零件的表面状况，该工艺简单、成本低、使用范围广。     

单色显像管PCRT零件化学研磨工艺的研究

1 前言 随着现代电子技术的飞速发展,不锈钢电子元器件的质量要求也越来越高,零件品质的好坏,直接影响电器、电脑和电视机等性能和使用寿命.电子元器件经过机械冲压后,一般表面都附着污物、毛刺和毛边等,这些都是影响零件性能的致命因素.过去一般都采用手工打磨和机械滚磨等工艺进行去除,但是,手工打磨不但劳动强度大、生产效率低,而且,无法保证零件的精密公差尺寸;机械滚磨可以有效地去除零件表面的污物、大的毛刺和孔口显微毛刺,提高零件的质量,但是,对于几何形状复杂的小型零件,机械滚磨去掉孔直径小于1 mm的孔口毛刺有一定困难,原因是磨料选择较困难,滚磨时间较难确定.     

高真空电子器件金属零件化学研磨工艺

普通型不锈钢化学研磨液无法消除毛刺、保证零件精密公差尺寸和表面粗糙度，严重影响高真空电子器件金属零件的使用性能。确定了一套完整的54cmFS高真空电子器件金属零件化学研磨工艺。介绍了该工艺的工艺流程及工艺规范。讨论了化学研磨原理及金属哑光表面控制。测量了54cmFS高真空电子器件金属零件利用该工艺化学研磨后的表面粗糙度、孔直径、显微毛刺尺寸、平面度、孔部真圆度。结果表明，该工艺可以使零件表面达到哑光状态、保证精密公差尺寸、改善表面平整度、促进零件孔的真圆度，降低了生产成本，具有较高的推广价值。