射频功率对非晶硅薄膜光电性能的影响

采用等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)技术,在Coming Eg 2000玻璃上制备非晶硅薄膜,研究了射频功率对薄膜光电性能的影响.结果表明:通过调节功率可获得具有高折射率,高吸收系数,低暗电导率的非晶硅薄膜.     

利用脉冲直流磁控溅射制备ZnO:Al薄膜的研究

利用中频脉冲直流磁控溅射法制备了平面ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜,研究了沉积压力、衬底温度和溅射功率对AZO薄膜光电性能、薄膜稳定性的影响.结果表明:在较低沉积压力、衬底温度及溅射功率下,可获得具有低电阻率、高透过率、高稳定性的AZO薄膜.