真空容器充气时间计算

真空容器充气时间的计算,至今尚无简易方便的计算公式。本文通过对空气流经充气阀孔向真空容器充气时气体流动状态的判别,又根据真空容器与充气装置的构成关系,建立数学模型,由此导出了真空容器充气时间的计算通式、简易计算式及平均充气速率。     

真空压力浸漆(VPI)设备的研究

本地引进的国外ＶＰＩ设备所进行的调研、分析以及本人在国产ＶＰＩ设备设计中取得的成功经验,就ＶＰＩ设备设计中各系统的组成、设计中应注意的问题和各系统所具有的特点作了简述。     

真空压力浸渍设备设计中苯乙烯蒸汽压的计算及冷凝捕集

该文通过对苯乙烯蒸汽压的计算，引出了苯乙烯蒸汽压力与温度之间的关系，从而对ＶＰＩ设备设计中苯乙烯气体的冷凝捕集、苯乙烯冷凝捕集器在真空抽气系统中的安放位置、真空抽气系统的合理选配提供了理论依据。     

真空压力浸渍设备设计中苯乙烯蒸蒸汽压的计算及冷凝捕集

该文通过对苯乙烯蒸汽压的计算，引出苯乙烯蒸汽压力与温度之间的关系，从而对ＶＰＩ设备设计中苯乙烯气体的冷凝捕集，苯乙烯冷凝捕集器在真空抽气系统中的安放位置，真空抽气系统的合理选配提供了理论依据。     

低温金相组织样品罐及其视窗表面温度计算

通过低温金相组织样品罐结构设计及其玻璃视窗表面温度计算 ,应用真空绝热技术解决了金属深冷处理工艺研究中金相样品表面凝露、结霜现象 ,从而使低温动态组织计算机处理系统能够清晰采集金相组织在深冷过程中动态组织变化过程的录像和图片 ,为深冷处理过程中金相组织变化的微观理论研究提供了设备支持。     

镀膜装置蒸发源发射形态与膜厚分布

蒸发源是真空镀膜装置中一个非常重要的部件。在多个蒸发源共存的装置中,如何在设计中正确选择蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间的距离就显得尤为重要,它直接关系到基板涂层均匀性。本篇文章根据蒸发源与基片之间的物理联系入手,分析基片--蒸发源距离对基片涂层均匀性的影响,进而对蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间距离的确定,提出了自己的一些观点和看法。