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对照认可准则浅谈仪器设备管理 总被引:1,自引:0,他引:1
徐辛 《现代测量与实验室管理》2009,17(1)
0 引言 检测实验室仪器设备是CNAS-CL01:2006<检测和校准实验室能力认可准则>中一个非常重要的技术要素,对保证检测结果的准确可靠起到至关重要的作用.准则5.5节以12个条款较大篇幅对仪器设备管理提出了详尽的要求. 相似文献
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浅谈实验室如何开展内部审核 总被引:1,自引:0,他引:1
徐辛 《现代测量与实验室管理》2010,18(2):46-47
本文介绍了实验室如何开展管理体系内部审核,阐述了内部审核目的、审核依据、审核策划、审核实施、审核的后续工作。确保质量管理体系运行的符合性、有效性。 相似文献
3.
随着气候问题日益变得严峻,碳排放问题已经成为我国甚至全世界在发展中所要面临的关键问题。建筑行业作为直接或间接碳排放的主要责任领域之一,对建筑建造过程中的优化升级直接决定了建筑业实现“双碳”目标的进程。文章首先回顾了我国在城市与建筑发展领域所取得的进展,随后通过国内、国际的相关案例进行归纳总结,尝试以一种新的视角去重新认识在“双碳”背景导向下建筑设计如何与城市相结合,并尝试在建筑全寿命周期利用的目标和导向下,实现“双碳”目标可持续性发展设计,并提出相应的构想与思考。 相似文献
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本文采用磁控溅射的方法,在In2O3掺杂的SnO2(ITO)衬底上制备了Ag掺杂ZrO2作为功能层的忆阻器器件ITO/ZrO2(Ag)/TiN。该忆阻器在退火前后的性能有较大差异,在500℃退火60分钟的条件下具有112的最大开关比,并且长期存放后仍具有5000+s以上的稳定性。通过对电流-电压(I-V)曲线进行分析拟合,提出了一个基于空间电荷限制电流(Space charge limited current, SCLC)机制和肖特基发射(Schottky emission)机制的物理模型来解释器件的复位/设置(Reset/Set, RS)记忆行为。通过X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了退火对器件微观结构和形貌的影响,发现退火后薄膜Ag结晶度增加和峰强比改变。结果表明,通过磁控溅射制备的薄膜通常存在大量缺陷,退火处理可以减少溅射薄膜的缺陷,提升器件的稳定性和开关比。 相似文献
5.
实验室质量管理体系的有效控制 总被引:1,自引:0,他引:1
徐辛 《现代测量与实验室管理》2009,17(6):41-43
0引言
质量管理体系是实验室质量保障和持续发展的基础,提高实验室管理水平,必须建立完善、协调的质量管理体系,并确保其有效运行,而质量管理体系有效运行的关键在于对质量管理体系的有效控制。 相似文献
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