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将多个响应分子整合到单晶体中是光机械晶体材料领域的一次全新尝试.本工作通过共晶制备了首个包含两种光响应分子的光机械晶体(9AC–NPE),每种分子都对应其独特的需要满足拓扑堆积条件的光二聚反应.紫外光照射下成功激发了晶体中的两种光二聚反应,同时表现出光显著效应、负光致变色和多发射峰的荧光增强.本文还将该共晶作为一个研究平台,比较和发现了两种光二聚反应在光反应速率和响应波长上的差异,这为制备具有复杂光机械行为的晶体材料提供了潜在的解决方案.此外,还发展了该共晶在光学打印中的概念设计.本工作加深了对光机械晶体材料设计和应用的理解,可作为该领域未来研究的重要参考. 相似文献
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