紫外传感贴片的叉指结构仿真优化

利用COMSOL Multiphysics仿真软件建立了含叉指电极结构的紫外传感贴片三维模型,并对其进行了相关电特性研究。为降低传感器初始电阻,便于后端电路的测量开发,利用控制变量法,基于叉指指宽、间距、厚度等结构参数设置了多个不同的仿真模型。在AC/DC模块下的电流物理场接口下,选择稳态研究,结果表明,不同的结构参数将对电极和传感器的电场分布和初始电阻产生影响。通过对比分析发现,叉指电极的指宽为0.6 mm,间距为0.4 mm,厚度为5μm时,初始电阻最小。此外,还设计了新型环状叉指电极结构,初步探究了其相关电学特性。研究发现该结构的初始电阻值与优化后的矩形叉指处于同一量级,对相关实验实践具有很好的指导意义。     

Design and characteristic research on side-polished fiber fluid sensing system

A novel fluid sensing system based on side-polished optical fiber (SPOF) is proposed, which realizes the fluid replaceability and effective refractive index (RI) sensing characteristics. Numerical investigations demonstrate that the photonic bandgap effect can be obtained if the RI of liquid is higher than that of substrate material in the wavelength range studied. The relationship between bandgap edge wavelength and RI is studied theoretically. The SPOF with a depth of 57 μm is used in the experiment to realize the construction of the fluid channel. After filling three different liquids, the result shows that the wavelength of the bandgap edge has a red shift with RI increased, which is nearly linear in the RI range of 1.56—1.6 with a sensitivity about 5 543.64 nm/RIU. The proposed sensing system can be flexibly applied to the field of fluid characteristic sensing such as biochemical solution characteristic detections.     

离轴磁控溅射生长钙钛矿外延薄膜

离轴磁控溅射法克服了传统磁控溅射二次电子和阴离子反刻蚀的缺点,改善外延薄膜的质量.本文从磁控溅射原理出发分析离轴磁控溅射相对于其他外延薄膜生长方式的优势,介绍了离轴磁控溅射的发展,重点综述离轴法制备近年来备受关注的YBa2Cu3O1-x,PbZxTi1-x和BiFeO3系钙钛矿结构外延薄膜的研究进展.     

金荞麦抑瘤活性成份提取及作用机制研究进展

金荞麦是药典收藏蓼科荞麦属药用植物,种质资源主要分布于我国中部和西南地区,其抑瘤活性成份浸滞法提取工艺滞后,主要抑瘤活性成份黄酮和酚类集中分布在根茎部位。金荞麦抗肿瘤主要机制是抑制肿瘤细胞增殖和迁移,诱导肿瘤细胞凋亡和自噬,以及抗炎抗氧化作用。本文综述了金荞麦抑瘤活性成份及提取和抗肿瘤作用机制研究进展,旨在为金荞麦抗肿瘤活性成份作用机制进一步研究和药用资源充分利用提供参考。     

离轴磁控溅射法生长1-3维PZT-NFO纳米复合薄膜

采用90°离轴磁控溅射法, 在MgAl₂O₄(001)单晶基片上自组装生长了Pb(Zr_0.52Ti_0.48)O₃-NiFe₂O₄ (PZT-NFO)复合磁电薄膜, 并研究了基片温度、氩氧比和溅射功率等因素对薄膜结构和性能的影响。结果表明, 适合生长PZT-NFO薄膜的条件为基片温度800℃, 氩氧比1:1, 溅射功率160 W。XRD测试显示, PZT-NFO薄膜为外延生长薄膜, 且PZT相与NFO相之间的垂直晶格失配非常小。AFM和SEM结构观察表明, 薄膜具有清晰的1-3维纳米复合结构, 铁磁相NFO纳米柱直径约为80~150 nm。降低氩氧比有助于NFO相的形成, 但溅射功率过大会造成1-3维结构向无规则0-3维结构转变。磁性能测量表明纳米复合薄膜的饱和磁化强度在120~160 kA/m之间, 低于块体的NFO相, 可能是由于两相的界面扩散所造成。