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对一种制备YBCO薄膜的光辅助MOCVD反应器内的流动现象进行了三维数值模拟研究.在模拟计算中,分别改变基座与进口的相对角度(Φ)、反应器顶壁倾斜角度(Ψ),得出反应器中流场的相应变化.根据对模拟结果的分析,发现当基座平面与进气口轴线之间的夹角Φ=22.5°及反应器顶壁倾角ψ=30°时,基片表面气流速度大小合适,分布均...  相似文献   
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