RM-1型脱模剂在外胎硫化中的应用

ＲＭ１型脱模剂在外胎硫化中的应用王振太刘震曹培江（青岛第二橡胶厂２６６０４１）在硫化罐硫化外胎过程中，为了方便外胎脱模，防止弯钢丝等质量缺陷，通常要在模型钢圈或胎坯胎圈上涂刷一层脱模剂。早期使用的脱模剂一般为肥皂液，由于肥皂液脱模效果不理想，逐渐被...     

氮离子注入法合成CNx膜的化学键表征

采用N离子注入金刚石膜和热解石墨方法合成了CNx膜,用Raman光谱和XPS谱对合成薄膜中C、N的化学键合状态进行了研究.通过与Raman光谱的比较,我们对合成样品XPS谱中N1s的化学键合状态作出如下归属:≈400.0 eV属于sp2 C-N键;≈398.5 eV则属于sp3 C-N键.结果显示:碳原子、氮原子间的化学键合状态,明显地依赖于衬底材料及注入N离子的能量.     

PLC常见问题浅析及对策——PLC安全运行分析

PLC是专门为工业生产环境而设计的电气控制装置,一般不需要采取什么特殊措施便可直接在工业环境中使用.但是,若生产环境过于恶劣,电磁干扰特别强烈,或安装使用不当,将会影响PLC的正常安全运行.PLC的安装与接线应按照其使用手册要求进行,除了要满足一定的安装环境外,关于PLC的电源、PLC的接地以及输入和输出端接线等常见运行中出现的问题,根据经验可采用以下相应的对策.     

氧含量对RF磁控溅射ZnO薄膜结构特性的影响

采用射频(RF)磁控溅射的方法,通过改变工作气氛中氩气和氧气的比例,在Si(100)衬底上沉积出具有高度C轴择优取向的ZnO薄膜.实验发现随着O2/(Ar+O2)比的增加,薄膜的沉积速率下降.O2/(Ar+O2)比对薄膜结晶状态有明显影响,O2/(Ar+O2)比约为0.45,薄膜结晶质量较好.     

节省PLC控制系统I／O点数的实用方法

介绍了几种简单的节省PLC控制系统I／O点数的方法，运用这些方法可以实现小型PLC控制较大系统，从而降低设备投资，具有实用价值。     

一维纳米材料的ECR-CVD方法制备

应用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积方法(ECR-CVD)进行了一维纳米材料的制备.以Fe3O4纳米粒子为催化剂,采用不同的气源,在多孔硅基底上制备出了碳纳米管、掺硼碳纳米管以及异质结构的纳米管.利用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和 X射线光电子谱(XPS)对样品的形貌、结构及组分进行表征.     

氧含量对RF磁控溅射ZnO薄膜结构特性的影响

采用射频(RF)磁控溅射的方法,通过改变工作气氛中氩气和氧气的比例,在Si(100)衬底上沉积出具有高度C轴择优取向的ZnO薄膜.实验发现随着O2/(Ar O2)比的增加,薄膜的沉积速率下降.O2/(Ar O2)比对薄膜结晶状态有明显影响,O2/(Ar O2)比约为0.45,薄膜结晶质量较好.     

加强实验室改革，培养创新型人才

结合现代高校和社会对大学生动手能力、实践能力和创新能力的要求,对现阶段高校实验室的现状进行了深入的分析。明确指出现代高校实验室的不足之处,提出高校实验室改革措施。避免实验室重复建设,促进实验室资源整合,提高资源利用率,使原本实验场地和设备都紧张的现状得到缓解,加强实验员队伍建设,培养创新型人才。     

衬底温度对脉冲激光沉积制备ZnO性能的影响

本文采用脉冲激光沉积（PLD）(KrF准分子激光器：波长248 nm,频率5Hz,脉冲宽度20 ns）方法在氧气气氛中以高纯Zn（99.999%）为靶材、在单晶硅和石英衬底表面成功生长了ZnO薄膜。通过X射线衍射仪、表明轮廓仪、荧光光谱仪、紫外可见分光光度计对合成薄膜材料的晶体结构、厚度、光学性质等进行了研究,分析了衬底温度变化对其性能的影响。实验结果表明我们使用PLD法在室温下可以制备出了高度结晶取向、高透过率和近带边发射的高质量ZnO薄膜。     

柔性衬底上AZO薄膜的附着力特性研究

使用脉冲激光沉积(PLD)方法在柔性衬底PMMA和PET上制备了具有高c轴择优取向的AZO(ZnO∶Al)薄膜。通过X射线衍射(XRD)、紫外可见分光光度计(UV-Vis)和纳米划痕仪,研究了在不同衬底下生长的薄膜样品的晶体结构、光学性能和附着力。结果表明,两种柔性衬底上生长的AZO薄膜都是单一的ZnO六方相,可见光范围内光学透过率均大于85%;PMMA、PET衬底上AZO薄膜的临界载荷数值分别为31.31mN和16.97mN,PET衬底上ITO薄膜的临界载荷数值为40.55mN。