基底温度和氧分压对直流磁控溅射制备的ZnO∶Al薄膜性能的影响

利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnO:A l(ZAO)透明导电薄膜。详细研究了沉积时的基片温度、氧分压强对膜的透光率和电阻率的影响。结果表明:ZAO薄膜具有六角纤锌矿结构且呈c轴择优取向,晶粒垂直于衬底方向柱状生长;衬底温度和氧分压对薄膜的电阻率有很大影响;基底温度对薄膜的可见光透过率影响不大,但随氧分压的增大而增大;在衬底温度为250℃、氧分压为1%时,薄膜有最优化的电阻率和平均透光率,分别达到8.35×10-4Ω.cm和85.2%。     

低辐射卷绕镀膜工艺在线透过率监控技术

介绍了卷绕镀膜生产线中镀膜工艺的透过率在线监控仪原理与实现方法,同时描述了透过率监控仪在低辐射卷绕镀膜中的应用.     

高透明低方阻ITO—Ag—ITO柔性镀膜技术

高透明低方阻ITO－Ag-ITO柔性薄膜具有广泛的用途，本文介绍了膜系设计，工艺参及控制，对设备结构也做了简要叙述，测试结果表明，ITO－Ag-ITO多层膜采用连续卷绕镀的方法生产，性能优异，工艺稳定，系统可靠。