一种用~(235)U作单内标的同位素稀释质谱法

建立了一种用~(233)U作单内标的同位素稀释质谱法。它可准确测定铀样品中的丰度比,这是一种基于重量法的绝对测量方法。~(233)U和被测铀样品按不同重量比被混合,然后,同时测量混合样中R_(58)(~(235)U/~(238)U)和R_(38)(~(233)U/~(238)U),而R_(38)可被看作是内参照标准。藉助迭代运算,R_(58)逐步逼近它的真值。使用该法,R_(58)的测量总不确定度可达到0.15%。并且,这个方法具有显著的优点,例如:测量的外精度可好于0.02％。     

关于焊接钢管残余应力的思考

阐述了焊接钢管在制造过程中残余应力产生的原因及种类分析了这些残余应力对钢制管道的性能影响，提出了几种如何消除钢管内有害的残余应力的方法。     

二灰碎石产生二灰砂液化的研究

本文对二灰砂液化促使二灰碎石强度增长机理进行了 分析,提出通过增加租集料含量,减少细集料,适当增加二灰含量,形 成嵌入式骨架密实结构。在最优含水量的基础上,增加2％-3％含水 量,通过搬动压路机反复激振产生二灰砂液化,以提高二灰碎石强度 和抗裂性。     

反应磁控溅射离子镀氮化钛薄膜质量与工艺参数的关系

本文总结了影响反应磁控溅射离子镀氮化钛膜层质量的主要工艺参数。测得了靶极电压与氮气流量、靶极电流与氮气流量、溅射室内压强与氮气流量、氮化钛膜的颜色与氮分压、氮化钛膜的颜色与基板温度、靶极功率与氩气分压的关系以及薄膜层中氮、钛含量沿薄膜表面的分布。上述结果对提高溅射速率和薄膜质量有很大的实际意义。     

铀同位素丰度的精确测定

本报告介绍用MAT-260型质谱计测定铀同位素丰度,着重探讨了影响数据精确度的因素,并采用美国国家标准局(NBS)样品对测得的数据进行校正,以保证其较高的准确度。在此基础上对天然铀,堆后料和~(235)U丰度为50%左右的样品进行了多次测定,结果表明:R_(58)(~(235)U对~(238)U的丰度比)值的测定精密度优于±0.06%,准确度为±0.2%。     

关于设备或结构安装中残余应力的思考

阐述了设备或结构安装中残余应力产生的原因,分析了这些残余应力对设备或结构的影响,提出了几种消除有害残余应力的方法。     

碳化硅薄膜热敏材料的制备

本文介绍了采用硅、碳复合靶射频溅射镀制碳化硅薄膜。用四探针法分别测得了在不同氩气分压下,不同溅射功率与基板温度下,电阻率与温度关系曲线。用 NP-1型光电子能谱仪测量薄膜成分。结果表明在不同的溅射条件下,制备的碳化硅薄膜属于硅、碳、碳化硅混合成分的薄膜,其电阻率相差很大。本工艺制备的碳化硅薄膜,在所测量的0～300℃温区内,具有明显的负温度系数。     

价值工程基本原理在设备材料选购中的应用

阐述了价值工程基本原理，结合工程建设实际分析了该原理的运用及其产生的效益。     

社会主义市场经济体制下仍需加强物资的计划管理

论述了社会主义计划经济与市场经济的关系以及在社会主义市场经济条件下，加强物资计划管理的必要性。     

非晶态金属真空制备装置

本文阐述了非晶态金属真空制备装置的用途及研制意义,装置的技术指标，结构特 点以及磁耦合等先进技术的应用。通过对 Ｎi Ｐ、Ｎi ＰＣｅ、 Ｎi ＰＹ、 ＣｕＺｒ等含易氧化元 素非晶态材料的制备及测试结果，证明本装置可以在真空保护气氛下制备含稀土等易氧 化元素的非晶态材料。