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离子束辅助沉积制备TiO_2-Nb_2O_5氧敏薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
采用离子束辅助沉积方法在Al2O3陶瓷衬底上制备了TiO2Nb2O5氧敏薄膜。考察了薄膜组分比及退火温度对薄膜氧敏特性和结构的影响。电阻氧分压特性测试结果表明,纯Nb2O5薄膜的氧敏特性优于纯TiO2薄膜;掺入少量的Ti可使Nb2O5薄膜的氧敏特性提高,以5mol%TiO2掺杂的Nb2O5薄膜最佳;过量掺杂则使Nb2O5薄膜的氧敏特性明显变差。在5mol%TiO2Nb2O5薄膜中再掺入少量的Pt(03%05%)可使其氧敏特性更好,而且其响应时间大大缩短。X射线衍射谱(XRD)和X射线光电子谱(XPS)分析表明,在退火后的TiO2Nb2O5薄膜中Nb2O5为单斜(Mform)结晶相,而掺杂的Ti以非晶的TiO2形式存在,即使在高达34mol%TiO2Nb2O5薄膜中也不例外。纯TiO2膜为金红石结构。不同退火温度(90011000C)对薄膜的氧敏特性和结构无明显影响。 相似文献
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