排序方式: 共有3条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1
1.
采用热阴极直流辉光等离子体化学气相沉积法制备亚微米晶氮掺杂金刚石膜(NDD), 采用SEM分析样品的表面形貌, 分别用Hall测试和循环伏安法测试氮掺杂金刚石电极的电学和电化学性能。实验结果表明, 当氮气流量低于30 sccm时, 膜的电导率随氮气流量的增大略有提高; 氮气流量继续增大则电导率迅速下降, 电导率最大为5.091 S/cm。氮掺杂金刚石电极具有较好的伏安性能, 在酸性、中性和碱性介质中均具有较宽的电位窗口和较低的背景电流。以硝基苯为目标污染物测试NDD材料作为阳极氧化降解的电催化性能。在0.1 mol/L Na2SO4溶液的支持电解质中, 以氮掺杂金刚石为阳极降解0.5 mmol/L的硝基苯, 反应时间300 min, 硝基苯的降解率达到94%, 化学需氧量(COD)去除率约68%。 相似文献
2.
采用热蒸发法在氧化铟锡玻璃上制备三氧化钼(MoO3)纳米带薄膜。通过扫描电镜、X射线衍射、红外光谱分析了纳米带的表面形貌及结构,通过紫外-可见-近红外光谱以及光致发光谱分析了电致变色前后纳米带光学性能以及缺陷分布情况。结果表明:纳米带的光学带隙为3.36eV,变色前纳米带内部就存在着部分由晶格畸变和氧空位产生的+5价Mo离子;变色后,注入的Li+和e-使材料内部的[MoO6]八面体发生新的畸变,产生新的Mo5+。电子在+6价和+5价的Mo离子间发生迁移而导致着色。 相似文献
3.
1