溅射工艺对Cu/SiO_2/Ni_(80)Fe_(20)复合结构丝形貌及磁性能影响

利用射频磁控溅射方法在自旋的Cu上制备了Cu/SiO2和Cu/SiO2/Ni80Fe20两个系列复合结构丝。利用扫描电镜、阻抗分析仪分析了溅射SiO2时基底丝旋转速率对复合结构丝的表面微观结构和巨磁阻抗效应的影响。实验结果表明,镀层表面颗粒大小随着制备SiO2时转速的增加先减小后增大,Cu/SiO2/Ni80Fe20复合结构丝的巨磁阻抗效应则随着转速的增加先增大后减小。     

电流对Ni80Fe20/Cu复合结构丝磁性能的影响

利用磁控溅射方法制备了Ni80Fe20/Cu复合结构丝,过程中给基底Cu丝施加电流,研究了电流对复合结构丝的形貌、磁结构及磁阻抗(Magnetoimpedance,MI)的影响。实验结果表明,施加电流后样品表面形貌趋于平整致密。适当的诱导电流大小和时间能够诱导磁性层产生环向磁结构,降低其等效各向异性场,进而提高样品的MI效应。溅射时间为40min,电流大小为125mA、通电时间30min时,样品的磁阻抗效应最明显。当诱导电流继续增大或电流时间进一步增加时,铁磁层磁结构转为纵向,矫顽力相应增加,阻抗效应降低。利用电流的热效应和磁效应对实验结果进行了有益的分析和讨论。