小孔法校准电离规

本文叙述电离真空規的小孔泻流法校准系統的原理与方法。这种方法由Dayton等建議,后由Normand等进行了許多实驗。作者采用这种方法对三种热阴极电离规在10~(-4)～10~(-5)乇压力范圍所作的蠾挤治稣f明,它与采用麦氏規校准的結果相符,校准系統誤差不大于8%,証明用这种方法校規精确、简便。它比較适用于工厂中使用的电离規的校准。     

国外真空镀膜技术的发展和应用──出席第七届国际真空冶金会议专题报告

第七届国际真空冶金和冶金镀膜会议于1982年11月26日──11月30日在东京经团联会馆举行。参加会议的有美国、苏联、西德、英国、日本等16个国家,共362人。中国出席这次会议共 9人,其中机械部3人、冶金部5人、科学院1人。会议发表论文共183篇,涉及内容十分广泛,本文就是这次会议有关真空镀膜的综述。 所谓真空镀膜就是指在真空或真空的可控气氛下将金属或金属化合物沉积到基体的表面上。从技术观点来看,目前的真空镀膜基本上可分为热蒸发、溅射、离子镀和等离子体化学汽相沉积(PCVD)四种(图1)。热蒸发和溅射早在40年代就开始应用于光学工业…     

锆铝吸气剂泵加温再生法机理的研究

本文根据吸气剂吸气的三因素——蒸散吸气因素、表面吸附因素与扩散因素,研究并确定吸气剂吸气的数学模型,用以说明不同情况下的吸气规律:当扩散很快,或气体压力很低时,吸气处于表面吸附决定区;当扩散很慢,或压力很高时,吸气进入扩散决定区。从理论上分析了吸气剂激活与再生的机理;实验研究了锆铝吸气剂泵的多次再生的性能,结果表明,每经一次再生,抽速递减5％,吸气量递减17％。