电子束曝光精密X—Y工件台研制

一、前言X—Y 精密工件台是电子束曝光机中的重要组成部分。为了研制能刻划微米级线条的电子束曝光机,工件台主要是要解决运动精度。有高精度的运动精度才能保证测量精度。此外在工件台移动时,不能有磁场的变化影响电子束正确偏转。电子束曝光是在真空中进行的,本工件台是专为电子束曝光使     

电子束曝光机自动输片系统研制

本文概略地介绍了在电了束曝光机上使用的自动输片系统的要求以及其组成部分;较详细地叙述了送取片机构(机械手)的动作过程,并对系统的控制原理及软件设计进行了说明。     

实用电子光刻系统:EBES

生产高质量、精细图形集成电路掩膜的电子束曝光系统(EBEs)已经证明是安用的和经济的。它也能在涂有抗蚀剂的硅片上直接曝光图形。这对发展新型半导体器件是一个有力的工具。EBES把掩膜或大圆片的连续直线运动和以光栅扫描曝光方式的电子束周期性的偏转结合了起来。基片的位置用激光干涉仪监视。系统的方案使电子和机械分系统在使用范围内能很好地工作,提高了系统工作的可靠性。系统有较高的分辨率,在较亮的电子源下,有较快的曝光速度,而且发展了更灵敏的抗蚀剂和快速数据处理技术。     

激光定位工件台

本文叙述了可变矩形电子束曝光机激光定位工件台的结构特点及所达到的各项指标。     

智能小流量靶式流量计的研制

小流量、高黏度的介质流量的测量是测量中的难点。靶式流量计测量高黏度介质流量有其独特的优点,但传统的靶式流量计存在机械结构复杂、灵敏度低、小流量时流量系数变化等缺点。介绍了靶式流量传感器的工作原理,对小流量流动流量系数的变化提出了修正方法并研制了智能型小流量测量的靶式流量计。实验结果表明:设计的流量计对高黏度、小流量测量具有较高精度。     

高精度旋转快门设计

本文主要介绍在设计弹道相机旋转快门时应注意解决的问题。概要地阐述了其结构和原理以及快门精度测试结果。     

可变矩形电子束曝光机激光定位工件台系统

文中概述了系统结构设计的误差分析,阐明了主要设计思想和结构特点,介绍了整机概况和操作控制原理。最后列出了所达到的各项主要技术指标。即工件台行程X·Y分别为135×110毫米,激光干涉仪分辩率为0.02微米,工件台定位精度±1微米,最大速度20毫米/秒,步进速度0.11秒/2毫米,真空度达到2×10~(-5)托。     

电子束曝光机工件台系统结构设计误差分析

本文首先扼要地阐述了作为电子束曝光机主要组成部分的工件台系统的功能要求,分析了影响工件台位移测量精度的各种因素并进行了粗略比较。指出了降低测量误差的具体措施,对能制作微米、亚微米线条的精密工件台的直线运动精度和反射镜的精度提出了具体的设计参数。