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本文首先简述了薄膜应力研究的发展过程,并指出了薄膜应力在薄膜研究与生产中的普遍性和重要性。薄膜应力研究的基本问题包括应力的测量、应力产生的机制、应力的控制和应力的作用。应力与薄膜结构、性能之间存在着相互影响的复杂关系。在综述前人研究工作的基础上,本文还简要介绍了Co—Cr合金膜和Gd-Fe合金膜的应力研究结果。 相似文献
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采用直流磁控溅射技术,配备自行设计的可调薄膜成份的BF—250型矩形平面区控电磁靶,制备了多种成份的Gd-Fe、Gd-Tb-Fe磁光合金薄膜。实验表明,BF-250型电磁靶调节薄膜成份,规律性好,调节范围宽,能够镀制出非晶态的垂直磁化磁光光盘介质薄膜,对于Gd-Tb-Fe磁光膜,(Gd+Tb)总含量为24at%左右,Gd与Tb的原子数比为1.5~1.7时,磁光特性较好。 相似文献
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采用蒸镀、离子束辅助沉积(IBAD)技术,在Al2O3(单晶、多晶)和玻璃基片上沉积钼膜,通过XRD,TEM等分析手段对于钼膜的织构及其产生机理进行了探讨。结果表明:在单晶和多晶A2O3以及非晶态玻璃基片上蒸镀的钼膜均存在强(110)织构。对于IBAD薄膜,随着氩离子轰击能量的增加,(110)织构向(200)织构转变。膜内应力计算及TEM观察结果证实,钼膜发生了塑性流变,而且塑性流变具有不均匀性。塑性流变的结果使得钼膜产生了(110)织构。 相似文献
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氮气对磁控溅射Co—Cr膜的晶体结构有显著影响。随着溅射气氛中氮气分压的升高。HCP相CoCr膜的c轴垂直取向度逐渐降低。氮气分压增加到4.0×10~(-3)Pa时,HCP相近似无规取向。氮气分压大于3.3×10~(-3)Pa时,出现FCC相。氮气分压大于1.0×10~(-2)Pa时,Co—Cr膜全部由FCC相组成。FCC相Co-Cr膜具有(200)面平行膜面的择优取向,而且取向度随氮气分压而升高。还发现氮气分压大于7.0×10~(-2)Pa时,Co-Cr膜中出现类似Cr_2N的氮化物。 相似文献
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用ICB外延技术在NaCl(100)和Si(111)衬底上生长了CdTe单晶薄膜.X光衍射、电子背散射通道及RHEED都表明获得了良好的单晶结构及平滑膜面.外延取向关系为CdTe(100)/NaCl(100)和CdTe(111)/Si(111).实验发现,生长温度小于230℃时,外延膜呈闪锌矿(立方)和钎锌矿(六方)的混合相结构.薄膜生长体现出团粒束淀积的规律,即随着团粒能量的增大,CdTe外延膜的结晶质量显著提高.在Si衬底上,外延得到的最好的CdTe膜,其双晶衍射摆动曲线半高宽为11弧分左右. 相似文献
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一、引言1972年,日本京都大学Takagi和Yamada等人提出一种新型的离子源,发明了离化原子群束(Ionized cluster beams)外延技术。ICB外延是一种非平衡条件下的真空蒸发和离子束方法相结合的薄膜淀积新工艺。它具有三个主要特点:1.离化原子群的荷质比小,能在低能量获得高的淀积速率;2.容易控制离化原子群的能量和离子含量,可 相似文献
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